[发明专利]一种基坑降水与污染场地整治耦合的清洁基坑降水系统有效

专利信息
申请号: 201610312149.2 申请日: 2016-05-12
公开(公告)号: CN105839655B 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: 王建秀;吴林波;邓沿生;宋东升;张宇澄 申请(专利权)人: 同济大学
主分类号: E02D19/10 分类号: E02D19/10;B01D36/04
代理公司: 上海科盛知识产权代理有限公司31225 代理人: 林君如
地址: 200092 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 基坑 降水 污染 场地 整治 耦合 清洁 系统
【权利要求书】:

1.一种基坑降水与污染场地整治耦合的清洁基坑降水系统,用于实现控制范围场地内的基坑降水与污染场地修复,所述的控制范围场地从上到下包括第一隔水层(1601)、含水层(17)和第二隔水层(1602),其特征在于,所述的基坑降水系统包括:

活性渗滤沟(5):设置在控制范围场地的边缘,并用于净化进入控制范围场地内的污染水体,所述的活性渗滤沟(5)底部延伸至第二隔水层(1602)内,在活性渗滤沟(5)内从底部到顶部依次设置活性渗滤墙、黏土层(12)和填充条块层(15),所述的活性渗滤墙的顶部伸入第一隔水层(1601)内;

基坑帷幕(2):设置在控制范围场地内,其底部伸入所述的控制范围场地的含水层(17)内并高于含水层(17)底部;

抽水井:包括疏干井(1)和降压井(3)两种,其中,疏干井(1)设置在基坑帷幕(2)内,其深度与基坑帷幕(2)深度一致;降压井(3)设置在基坑帷幕(2)与活性渗滤沟(5)之间,其底部抵达含水层(17)底部,所述的抽水井在接触含水层(17)的位置还设有活性过滤墙;

观测井(4):设置在控制范围场地内外,用于监测控制范围场地内的含水层(17)的水体污染情况,所述的观测井(4)的底部抵达含水层(17)底部;

所述的抽水井还与外部抽水组件连接,所述的活性渗滤墙分为两种,包括设置在活性渗滤沟(5)处的第一活性渗滤墙(1101)和设置在抽水井处的第二活性渗滤墙(1102)。

2.根据权利要求1所述的一种基坑降水与污染场地整治耦合的清洁基坑降水系统,其特征在于,所述的活性渗滤沟(5)的深度满足:下挖至第二隔水层(1602)大于或等于1m。

3.根据权利要求1所述的一种基坑降水与污染场地整治耦合的清洁基坑降水系统,其特征在于,所述的第一活性渗滤墙(1101)由活性渗滤沟(5)的底部堆叠至含水层(17)顶部0.8-1.2m处;

所述的黏土层(12)的厚度为1.5-2.5m;

所述的填充条块层(15)由轻质刚性条块堆叠至地表组成。

4.根据权利要求1所述的一种基坑降水与污染场地整治耦合的清洁基坑降水系统,其特征在于,所述的第一活性渗滤墙(1101)由内置修复试剂的反应模块(19)组成,所述的反应模块(19)的横向两端分别依次设有凹槽(21)与凸梁(20),所述的凸梁(20)的宽度小于凹槽(21)的宽度,同一反应模块(19)的两端的凹槽(21)与凸梁(20)的分布朝向正好相反,以使得横向相邻的两反应模块(19)之间的相互镶嵌;

所述的反应模块(19)的纵向两端设置成面向相反的台阶状,且台阶状的外边沿(22)与内边沿(23)的宽度匹配,以便于纵向相邻的反应模块(19)的相互契合。

5.根据权利要求1所述的一种基坑降水与污染场地整治耦合的清洁基坑降水系统,其特征在于,所述的疏干井(1)和降压井(3)的中心轴线位置均安装有与外部抽水组件连接的第一钢管(901),位于第一钢管(901)下部的第一过滤管部分(1001)从含水层(17)顶部位置直达井底,在第一过滤管部分(1001)的外围还安装有第一活性渗滤墙(1101),并使得第一活性渗滤墙(1101)上端高出第一过滤管部分(1001)顶端,在第一活性渗滤墙(1101)的上端还依次设置黏土层(12)和砂土层(13)。

6.根据权利要求1所述的一种基坑降水与污染场地整治耦合的清洁基坑降水系统,其特征在于,所述的观测井(4)的中心轴线位置安装有第二钢管(902),第二钢管(902)下端的第二过滤管部分(1002)从含水层(17)顶部直达含水层(17)底部,第二过滤管部分(1002)的外围设置瓜子片层(14),并使得瓜子片层(14)高出滤水管顶端,在瓜子片层(14)上部还依次设置黏土层(12)和砂土层(13)。

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