[发明专利]一种提高内层曝光对位精度的方法在审

专利信息
申请号: 201610266379.X 申请日: 2016-04-26
公开(公告)号: CN105764259A 公开(公告)日: 2016-07-13
发明(设计)人: 喻恩 申请(专利权)人: 深圳崇达多层线路板有限公司
主分类号: H05K3/00 分类号: H05K3/00
代理公司: 深圳市精英专利事务所 44242 代理人: 冯筠
地址: 518000 广东省深圳市宝安区沙井街道新桥横岗下工*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 发明公开了一种提高内层曝光对位精度的方法,包括以下步骤:a、在对应于内层芯板第一表面的菲林上制作第一标尺,所述第一标尺由至少3根均匀分布的刻度线组成;b、在对应于内层芯板第二表面的菲林上制作第二标尺,所述第二标尺由至少3根均匀分布的刻度线组成,所述第一标尺和所述第二标尺的第一根刻度线对齐设置,所述第二标尺刻度线之间的间距小于所述第一标尺刻度线之间的间距。第一标尺刻度线间距较第二标尺间距大0.005mm,两面曝光后,通过读取两标尺的偏移量可测出曝光对位的偏差量,即对位精度,可将对位精度提高至5μm,并且测量方法简单快捷,可以直接读取对位精度,可有效检验曝光制程能力,并提升曝光精度。
搜索关键词: 一种 提高 内层 曝光 对位 精度 方法
【主权项】:
一种提高内层曝光对位精度的方法,其特征在于,包括如下步骤:a、在对应于内层芯板第一表面的菲林上制作第一标尺,所述第一标尺由至少3根均匀分布的刻度线组成;b、在对应于内层芯板第二表面的菲林上制作第二标尺,所述第二标尺由至少3根均匀分布的刻度线组成,所述第一标尺和所述第二标尺的第一根刻度线对齐设置,所述第二标尺刻度线之间的间距小于所述第一标尺刻度线之间的间距。
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