[发明专利]一种位置辅助芯片晶圆映射方法有效
申请号: | 201610226898.3 | 申请日: | 2016-04-12 |
公开(公告)号: | CN105789079B | 公开(公告)日: | 2018-04-24 |
发明(设计)人: | 朱干军 | 申请(专利权)人: | 朱干军 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66;G01R31/26 |
代理公司: | 合肥市上嘉专利代理事务所(普通合伙)34125 | 代理人: | 郭华俊 |
地址: | 230041 安徽省合肥市庐阳*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | 本发明公开了一种位置辅助芯片晶圆映射方法,包括以下步骤包括以下步骤利用移动台把待测元件移动到提取位置,并记录移动台的位置移动量的步骤;将被提取的待测元件和对应的移动台位置移动量或者由移动台位置移动量标定的坐标一起在测量环节中流转的步骤;以及利用各待测元件的结构参数、对应的移动台位置移动量或坐标、以及在测量环节中获得的测量参数来重构测量参数的晶圆映射的步骤。不同于在芯片上进行物理标记的方法,本发明借助与芯片有确定位置关系的位置移动量,来标记芯片在晶圆上的相对位置或坐标,在芯片级物理参数测量后,实现可对其参数的晶圆映射的重构,而不在硬件层面上增加制程和检测环节的成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 位置 辅助 芯片 映射 方法 | ||
【主权项】:
一种位置辅助芯片晶圆映射方法,其特征在于,包括以下步骤:利用移动台把待测元件移动到提取位置,并记录移动台的位置移动量的步骤;将被提取的待测元件和对应的移动台位置移动量或者由所述移动台位置移动量标定的坐标一起在测量环节中流转的步骤;以及利用各所述待测元件的结构参数、对应的所述移动台位置移动量或所述坐标、以及在测量环节中获得的测量参数来重构所述测量参数的晶圆映射的步骤,其中,所述待测元件的结构参数包括形状尺寸、与其他待测元件之间的间隙,所述移动台包括用于对各待测元件对应的位置移动量进行记录的第一记录单元,所述测量环节包括用于对各所述待测元件的测量参数、及位置移动量或所述坐标一起进行记录的第二记录单元,所述第二记录单元提供的数据用于重构所述测量参数的晶圆映射。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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