[发明专利]自旋处理装置

摘要

本发明提供能抑制产生粉尘和旋转过程中的基板位置偏移的自旋处理装置。自旋处理装置(1)具备：多个夹销(21)，利用作用力分别抵接于基板的外周面并把持基板；旋转机构即电动机(4)等，使各夹销绕着基板的外周旋转；升降机构(3h)，使固定环形磁铁沿着基板的旋转轴方向上下：变换机构(3g)，将与固定环形磁铁相斥的旋转环形磁铁的上下方向的运动变化为横向运动；同步移动机构即多个副齿轮(3e)、主齿轮(3f)等，对应于横向运动中的某一方向的运动，使各夹销同步地抵抗上述作用力而向远离基板外周面的方向移动相同的量，对应于横向运动中的另一方向的运动，使各夹销在上述作用力下同步地向靠近基板的外周面的方向移动相同的量。

主权项

1.一种自旋处理装置，其特征在于，具备：至少三个夹紧部，把持基板的外周面；副齿轮，独立地设置于上述至少三个夹紧部；旋转机构，以使由各上述夹紧部把持的上述基板在平面内旋转的方式，使各上述夹紧部绕上述基板的外周旋转；升降机构，具有沿着上述基板的旋转轴方向进行升降的第1磁铁，使上述第1磁铁沿着上述基板的旋转轴方向上下；变换机构，具有与上述第1磁铁相对并相斥的第2磁铁，将上述第2磁铁的上下方向的运动变换为横向运动；以及同步移动机构，具有主齿轮，该主齿轮在上述旋转机构的作用下能够绕上述基板的旋转轴旋转，与各上述夹紧部的上述副齿轮啮合，上述主齿轮在由上述变换机构进行的上述横向运动的作用下旋转，各上述夹紧部分别具有夹销，上述夹销设于从与上述基板的旋转轴平行的销旋转轴偏心的位置，利用作用力抵接于上述基板的外周面，上述同步移动机构，通过对应于上述横向运动中的某一方向的运动的上述主齿轮的旋转，使各上述夹紧部的上述副齿轮同步旋转，使各上述夹销向抵抗上述作用力的方向即开放上述基板的把持的方向移动；通过对应于上述横向运动中的另一方向的运动的上述主齿轮的旋转，使各上述夹紧部的上述副齿轮同步旋转，使各上述夹销向上述作用力的方向即把持上述基板的方向移动。