[发明专利]高纵横比镀铜均匀的方法在审

专利信息
申请号: 201610156761.5 申请日: 2016-03-18
公开(公告)号: CN105696043A 公开(公告)日: 2016-06-22
发明(设计)人: 贺文辉;郭宏;吴喜莲;周光华;李建军 申请(专利权)人: 奥士康科技股份有限公司
主分类号: C25D7/00 分类号: C25D7/00;C25D21/14;C25D3/38;H05K3/42
代理公司: 深圳市兴科达知识产权代理有限公司 44260 代理人: 王翀
地址: 413000 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要: 高纵横比镀铜均匀的方法,包括预处理、电镀药水自动添加和手动分析补料,本发明电镀成本低,均匀性高,整板可达95%的均匀性,纵横25点测试极差<4um,纵横比高,纵横比>8:1,孔铜灌孔能力强,灌孔能力>90%,产品品质大大提高;能长期维持药水的稳定,快速溶解并确保槽液不同区域药水成分的均匀性,电镀时槽液中电解铜能均匀的集中吸附到PCB板面上,药水中的CuSO4能合理的输送到PCB板面上,能均匀的增加电解铜层的厚度。
搜索关键词: 纵横 镀铜 均匀 方法
【主权项】:
高纵横比镀铜均匀的方法,其特征在于,包括以下步骤:(1)预处理:根据PCB板的尺寸、板厚、孔径纵横比和铜层厚度的技术要求建立电镀参数,所述电镀参数包括电流密度、速度、喷流频率、板厚、孔径纵横比和PCB板的长宽;(2)电镀药水自动添加:将PCB板投入到镀铜装置中镀铜,在镀铜过程中,镀铜装置根据PCB板的尺寸和电镀参数自动计算电镀时间,然后根据电镀时间计算补料频率,将补料频率发送至自动添加器,自动添加器根据补料频率的指令添加电镀药水;(3)手动分析补料:对镀铜装置内的电镀药水定期取样,化验,分析电镀药水的成分,根据电镀药水的成分分析结果向镀铜装置内补充电镀药水。
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