[发明专利]一种全息散斑结构有机发光二极管制作方法

摘要

本发明公开了一种全息散斑结构有机发光二极管制作方法。首先通过在全息光刻技术在光刻胶上制备散斑的像面全息干涉条纹，然后在像面全息干涉条纹上依次制备第一电极层、有机层和背电极，最后经过封装制备出散斑结构有机发光二极管。通过调整全息干涉记录参考光的角度便可调控有机发光二极管的定向出光增强，获得定向提高发光效率的有益效果，而且不会造成光谱漂移和漏电流增加的现象。

主权项

一种散斑结构有机发光二极管制作方法，特征在于，包括以下步骤：S1) 通过全息光刻技术曝光形成散斑像面全息干涉条纹；S2）通过显影、自然风干获得散斑像面全息结构；S3) 在散斑像面全息结构上制作第一电极层，厚度为30～180 nm；S4) 通过旋涂或热蒸发在第一电极层上形成有机层和背电极；S5) 器件封装成型。