[发明专利]一种全息散斑结构有机发光二极管制作方法有效

专利信息
申请号: 201610140749.5 申请日: 2016-03-14
公开(公告)号: CN105789485B 公开(公告)日: 2017-12-26
发明(设计)人: 周雷;童捷;范媛媛;朱雨富;张俊;胡光;林毅 申请(专利权)人: 淮阴工学院
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L51/52
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 223003 江苏省淮*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 全息 结构 有机 发光二极管 制作方法
【说明书】:

技术领域

本发明涉及有机发光二极管技术领域,更具体地说,涉及一种全息散斑结构有机发光二极管制作方法。

背景技术

有机发光二极管因为主动发光、低功耗、全固态、发光亮度高、色彩丰富、易于实现柔性显示等诸多优点,被认为是继CRT、LCD之后的最具发展前景的下一代照明和显示技术,并已在商业产品应用中表现出了强劲的发展势头。

然而,尽管有机发光二极管的内发光效率已经接近100%,但是由于器件各功能层的折射率不匹配,造成发光层发出的光子大部分仍然陷在器件内部被损失掉,只有20%的光能能够出射。而且器件出光角度随机。因此,设法改进器件结构,定向提高器件的发光效率具有重要意义。

近年来,通过在有机发光二极管内引入微纳结构,改进器件结构,从而提高发光效率的研究已经取得了很好的发展,如:纳米光栅结构(《Solving Efficiency–Stability Tradeoff in Top‐Emitting Organic Light‐Emitting Devices by Employing Periodically Corrugated Metallic Cathode》(Advanced Materials, 2012, 24(9): 1187-1191),中国发明专利:公开号CN102484209A)、随机褶皱结构(《Light extraction from organic light-emitting diodes enhanced by spontaneously formed buckles》(Nature Photonics, 2010, 4(4): 222-226) )、基底仿生蛾眼结构(《Simultaneous efficiency enhancement and self-cleaning effect of white organic light-emitting devices by flexible antireflective films》(Optics letters, 2011, 36(14): 2635-2637) )、光提取膜(中国发明专利:公开号为CN102844904A)等。从上述文献和专利可以看出,通过改善器件结构可以有效提高有机发光二极管的发光效率。然而,周期性光栅结构容易造成色散和谱带漂移;随机褶皱制备工艺复杂、可控性和可重复性较差,纳米蛾眼结构槽深较难控制、易造成漏电流增加。更为重要的,上述方案均不能实现定向发光效率增强,而定向发光效率增强可实现定向对比度增强,而定向对比度增强对于在强光环境下显示显得尤为重要,如手机在太阳光环境下,视角范围内对比度的增强会使屏幕显示更加清晰鲜艳。

发明内容

有鉴于此,本发明的目的是针对上述现有技术不足,提出一种散斑结构有机发光二极管制作方法,可以定向提高有机发光二极管的发光效率,而且不会引起暗电流增加,并有效改善器件在不同视角下的色散和光谱漂移。

为了实现上述目的,本发明提供一种散斑结构有机发光二极管制作方法,包括步骤:

S1) 通过全息光刻技术曝光形成散斑像面全息干涉条纹;

S2)通过显影、自然风干获得散斑像面全息结构;

S3) 在散斑像面全息结构上制作第一电极层,厚度为30~180 nm;

S4) 通过热蒸发在第一电极层上形成有机层和背电极;

S5) 器件封装成型。

优选的,所述的全息光刻技术曝光形成散斑像面全息干涉条纹,包括步骤:

1)波长为441 nm激光器发出激光光束,激光光束通过分束器分为两路;

2)一路经扩束器扩束后,再经透镜准直后,照射毛玻璃形成随机散斑物光,散斑物光再经过成像透镜组成像在光刻胶上;

3)另一路经经扩束器扩束后,再经透镜准直后,作为参考光,照射在光刻胶上;

4)散斑物光和参考光夹角在30度~60度,干涉10~60秒后,关闭激光器,在光刻胶上曝光形成散斑像面全息干涉条纹。

优选的,所述的光刻胶均匀涂布在基底上,光刻胶厚度为500 nm~2 μm。

优选的,所述的光刻胶基底, 材质可为硬质材料,如石英、玻璃、硅片等;也可为柔性材质,如:聚对苯二甲酸乙二醇酯、聚碳酸酯和聚氯乙烯等。

优选的,所述的显影是指将曝光的光刻胶连同基底放入到体积分数为0.8%~1.5%的NaOH溶液中,显影时间为7~15秒,光刻胶散斑干涉条纹槽深为40 nm~300 nm。

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