[发明专利]五级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法有效
申请号: | 201610140129.1 | 申请日: | 2016-03-11 |
公开(公告)号: | CN105607435B | 公开(公告)日: | 2017-10-24 |
发明(设计)人: | 张利斌;董立松;苏晓菁;韦亚一 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子研究所 |
主分类号: | G03F9/00 | 分类号: | G03F9/00 |
代理公司: | 北京集佳知识产权代理有限公司11227 | 代理人: | 赵秀芹,王宝筠 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开了一种五级衍射光栅结构及其制备方法、晶圆光刻对准方法。在该五级衍射光栅结构包括晶圆以及形成于晶圆上的光栅图形结构。光栅图形结构由光栅精细结构单元组成,光栅精细结构单元的宽度为一个光栅周期,所述光栅精细结构单元在宽度方向上等分为20个区域,每个区域上设置有第一图形结构1st或第二图形结构2nd;1st和2nd在光栅图形结构的宽度方向上按照不同顺序排列形成不同的光栅精细结构单元,所述光栅精细结构单元为第一光栅精细结构单元、第二光栅精细结构单元或第三光栅精细结构单元。该光栅结构能够有效提高光栅的衍射光强,增大光刻时在对准光栅之上涂覆材料及其厚度的可选择范围,降低对准不确定性范围,提高精确对准精度。 | ||
搜索关键词: | 衍射 光栅 结构 及其 制备 方法 圆光 对准 | ||
【主权项】:
一种五级衍射光栅结构,其特征在于,包括:晶圆;形成于所述晶圆上的光栅图形结构;其中,所述光栅图形结构由一个光栅精细结构单元组成或者由多个光栅精细结构单元循环排列组成,所述光栅精细结构单元的宽度为一个光栅周期,所述光栅精细结构单元在宽度方向上等分为20个区域,所述20个区域的每个区域上设置有第一图形结构1st或第二图形结构2nd;所述第一图形结构1st和第二图形结构2nd在光栅图形结构的宽度方向上按照不同顺序排列形成不同的光栅精细结构单元,所述光栅精细结构单元为第一光栅精细结构单元、第二光栅精细结构单元或第三光栅精细结构单元;所述第一光栅精细结构单元的结构为:{1st 1st 1st 1st 1st 1st 2nd 2nd 1st 1st 2nd 2nd 2nd 2nd 2nd 2nd 1st 1st 2nd 2nd};所述第二光栅精细结构单元的结构为:{1st 1st 1st 1st 1st 1st 2nd 2nd 1st 1st 2nd 2nd 1st 2nd 2nd 2nd 1st 1st 2nd 1st};所述第三光栅精细结构单元的结构为:{1st 1st 1st 1st 1st 1st 2nd 2nd 1st 1st 2nd 2nd 1st 2nd 2nd 2nd 1st 1st 2nd 2nd};其中,第一图形结构1st和第二图形结构2nd在同一近邻高度位置下的光学相位相差π。
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