[发明专利]用于预估曝光工艺的焦点和剂量的方法和装置

摘要

半导体制造中的结构至少包括第一周期性的非对称的部件和第二周期性的非对称的部件。第一部件包含多个周期性分布的第一元件。第一部件具有第一非对称的轮廓，使得当第一部件旋转180度时，第一部件不再具有相同的第一非对称的轮廓。第二部件包含多个周期性分布的第二元件。第二部件具有第二非对称的轮廓，使得当第二部件旋转180度时，第二部件不再具有相同的第二非对称的轮廓。第二非对称的轮廓不同于第一非对称的轮廓。本发明的实施例还涉及用于预估曝光工艺的焦点和剂量的方法和装置。

主权项

1.一种半导体制造中的结构，包括：第一部件，包含多个周期性分布的第一元件，其中，所述第一部件在顶视图中具有第一非对称的轮廓，使得当所述第一部件旋转180度时，所述第一部件不再具有相同的所述第一非对称的轮廓；第二部件，包含多个周期性分布的第二元件，其中，所述第二部件在所述顶视图中具有第二非对称的轮廓，使得当所述第二部件旋转180度时，所述第二部件不再具有相同的所述第二非对称的轮廓，并且所述第二非对称的轮廓不同于所述第一非对称的轮廓；以及第三部件，包含多个周期性分布的第三元件，其中，所述第三部件具有第三非对称的轮廓，使得当所述第三部件旋转180度时，所述第三部件不再具有相同的所述第三非对称的轮廓，并且其中，所述第三非对称的轮廓不同于所述第一非对称的轮廓和所述第二非对称的轮廓，其中，无论所述第一部件、所述第二部件和所述第三部件中的每一个在所述顶视图中如何旋转，所述第一部件、所述第二部件和所述第三部件都具有不同的顶视图轮廓。