[发明专利]用于预估曝光工艺的焦点和剂量的方法和装置有效
| 申请号： | 201610135755.1 | 申请日： | 2016-03-10 |
| 公开（公告）号： | CN105988307B | 公开（公告）日： | 2018-09-28 |
| 发明（设计）人： | 陈彦良;柯志明;陈开雄;周文湛 | 申请（专利权）人： | 台湾积体电路制造股份有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G03F9/00 |
| 代理公司： | 北京德恒律治知识产权代理有限公司 11409 | 代理人： | 章社杲;李伟 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 中国台湾;71 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 预估 曝光 工艺 焦点 剂量 方法 装置 | ||
【权利要求书】：
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