[发明专利]一种化学镀铜剂及其制备方法有效
| 申请号: | 201610131545.5 | 申请日: | 2016-03-09 |
| 公开(公告)号: | CN105779980B | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
| 发明(设计)人: | 卢瑞华 | 申请(专利权)人: | 昆山艾森半导体材料有限公司 |
| 主分类号: | C23C18/40 | 分类号: | C23C18/40 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 215000 江苏省苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | 本发明属于电路板制造技术领域,涉及一种化学镀铜剂及其制备方法,其中化学镀铜剂的组分和重量百分比为EDTA‑2Na0.03‑0.04%、硫酸铜0.005‑0.007%、氢氧化钠0.003‑0.007%、EDTP 0.002‑0.005%、甲醛0.002‑0.004%、甲醇0.003‑0.005%、己二酸0.01‑0.05%、丁二酸0.005‑0.01%,其余为去离子水。本发明化学镀铜剂不仅能达到RoHS标准,而且相对于CuCl2体系镀铜剂附着力以及耐湿热性能更强。 | ||
| 搜索关键词: | 一种 化学 镀铜 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
一种化学镀铜剂,其特征在于:由EDTA‑2Na、硫酸铜、氢氧化钠、EDTP、甲醛、甲醇、己二酸、丁二酸以及去离子水组成,其各组分含量为:EDTA‑2Na0.03‑0.04%、硫酸铜0.005‑0.007%、氢氧化钠0.003‑0.007%、EDTP0.002‑0.005%、甲醛0.002‑0.004%、甲醇0.003‑0.005%、己二酸0.01‑0.05%、丁二酸0.005‑0.01%,其余为去离子水。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理





