[发明专利]一种电铸模具及其制备方法在审
| 申请号： | 201610122272.8 | 申请日： | 2016-03-03 |
| 公开（公告）号： | CN105734619A | 公开（公告）日： | 2016-07-06 |
| 发明（设计）人： | 郭哲;刘祝凯;许斌;梁刚;李晓龙 | 申请（专利权）人： | 北京同方生物芯片技术有限公司 |
| 主分类号： | C25D1/10 | 分类号： | C25D1/10;G03F7/00 |
| 代理公司： | 北京亿腾知识产权代理事务所 11309 | 代理人： | 陈霁 |
| 地址： | 101500 北京市密云县密云经济*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种电铸模具的制备方法，在一个实施例中，所述方法包括：根据微流控设计的图形，设计负性掩模板；在衬底上旋涂负性光刻胶；利用所述负性掩模板对所述衬底上的光刻胶进行曝光处理；对所述曝光处理后的光刻胶进行显影处理，得到光刻胶图形；对所述光刻胶图形进行表面金属化处理；对所述表面金属化的光刻图形进行电铸处理，得到电铸模具；将所述电铸模具在碱性溶液中浸泡，获得去除光刻胶的电铸模具。该方法主要是针对光刻胶与电铸模具如何剥离进行改进。借助此方法可以快速、高效的制备出表面光洁、无损伤的金属模具，在很大程度上提高了电铸模具与光刻胶的剥离效率，以及电铸模具的质量。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 电铸 模具 及其 制备 方法 | ||
【主权项】：
一种电铸模具的制备方法，其特征在于，所述方法包括：根据微流控设计的图形，设计负性掩模板；在衬底上旋涂负性光刻胶；利用所述负性掩模板对所述衬底上的光刻胶进行曝光处理；对所述曝光处理后的光刻胶进行显影处理，得到光刻胶图形；对所述光刻胶图形进行表面金属化处理；对所述表面金属化的光刻图形进行电铸处理，得到电铸模具；将所述电铸模具在碱性溶液中浸泡，获得去除光刻胶的电铸模具。
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