[发明专利]真空镀膜件及其制造方法有效
| 申请号： | 201610116521.2 | 申请日： | 2016-03-02 |
| 公开（公告）号： | CN105568222B | 公开（公告）日： | 2018-07-27 |
| 发明（设计）人： | 黄玉春 | 申请（专利权）人： | 黄玉春 |
| 主分类号： | C23C14/14 | 分类号： | C23C14/14;C23C28/02 |
| 代理公司： | 广州市红荔专利代理有限公司 44214 | 代理人： | 吴世民 |
| 地址： | 518105 广东省深圳*** | 国省代码： | 广东;44 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 一种真空镀膜件，包括基体及形成于基体上的金属导电层，所述导电层为溅射在基体（11）上的铜层（14）银层（16）结合层，基体（11）与铜层（14）之间依次溅射打底层（12）和过度保护层（13），银层（16）与铜层（14）之间溅射过渡保护层（15）。本发明还提供一种上述真空镀膜件的制造方法。该真空镀膜件导电性能高，导电层与基体结合力好，镀层性能稳定。 | ||
| 搜索关键词： | 真空镀膜 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种真空镀膜件的制造方法，其包括如下步骤：⑴准备洁净基体；⑵用钛铝合金靶材，在基体上用真空镀膜的方法溅射一层打底层；⑶用镍铜合金靶材，在上述步骤⑵基础上用真空镀膜方法溅射一层过渡保护层；⑷用铜靶材，在上述步骤⑶基础上用真空镀膜方法溅射一层加厚导电铜层；⑸用镍铜合金靶材，在上述步骤⑷基础上用真空镀膜方法溅射一层过渡保护层；⑹用银靶材，在上述步骤⑸基础上用真空镀膜方法溅射一层导电银层。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于黄玉春，未经黄玉春许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201610116521.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
