[发明专利]一种蓝宝石图形衬底掩膜版的图形结构和曝光方法有效

专利信息
申请号: 201610113391.7 申请日: 2016-02-29
公开(公告)号: CN107132726B 公开(公告)日: 2019-11-26
发明(设计)人: 章磊 申请(专利权)人: 上海微电子装备(集团)股份有限公司
主分类号: G03F1/90 分类号: G03F1/90
代理公司: 31237 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 代理人: 屈蘅;李时云<国际申请>=<国际公布>=
地址: 201203 上*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明提供一种蓝宝石图形衬底掩膜版的图形结构和曝光方法,掩膜版上包括透光区和若干处不透光区,图形结构由若干个相同的多边形拼接而成,多边形具有至少2个扇形不透光区域及一个透光区域,拼接方式为将多个多边形的扇形不透光区域拼接,形成圆形不透光区,掩膜版的边界上未形成完整的多边形的区域皆为不透光区。本发明中透光区域由上述多边形拼接形成,其余皆为不透光区域,这样拼接保证靠近该侧边的圆形不透光区域不会受到光照的干扰,在曝光另一个相同的掩膜版时,只需与第一个掩膜版侧边相拼接,将侧边处的图案曝光出来,从而这种掩膜版图形结构和曝光方法解决了不透光图形区域与掩膜版边界距离过小而导致曝光不清晰的问题。
搜索关键词: 一种 蓝宝石 图形 衬底 掩膜版 结构 曝光 方法
【主权项】:
1.一种蓝宝石图形衬底掩膜版的图形结构,包括透光区和若干处不透光区,其特征在于,所述图形结构由若干个相同的多边形拼接而成,所述多边形具有至少2个扇形不透光区域及一个透光区域,拼接方式为将多个所述多边形的所述扇形不透光区域拼接,形成圆形不透光区,所述多边形为轴对称图形,所述多边形的所有扇形不透光区域对应圆弧的半径相等,且所述多边形上所有圆弧所对应的圆心角之和为180°,靠近侧边的圆形不透光区域与侧边之间的透光区域不足以拼凑成一个完整的多边形,所述掩膜版的边界上未形成完整的多边形的区域皆为不透光区。/n
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