[发明专利]用于粒子光学仪器的多源GIS有效
| 申请号： | 201610103190.9 | 申请日： | 2016-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN105908150B | 公开（公告）日： | 2017-06-23 |
| 发明（设计）人： | J.J.L.穆德斯;P.H.F.特罗姆佩纳亚斯;P.多纳 | 申请（专利权）人： | FEI公司 |
| 主分类号： | C23C16/455 | 分类号： | C23C16/455 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人： | 刘林华,傅永霄 |
| 地址： | 美国俄*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及用于在粒子光学仪器的真空室中施用至少两种流体的喷气系统(GIS)，喷气系统具有两个或更多个通道(102,110)，各个通道在第一侧连接至容纳流体的相关联的贮藏器，并且在另一侧具有相关联的出口开口，出口侧经由具有喷嘴开口的喷嘴而单独地退出至GIS的外侧，其特征在于，至少两个出口开口(106,108)以比出口开口附近的通道的直径更小的距离分离，优选地，彼此同中心。本发明还涉及前述GIS的使用，其中中心喷嘴引导高通量的例如氧气，而外部的同中心的喷嘴将例如MeCpPtMe3的金属前驱体以更小两个数量级的通量引导至样品。在单步骤式沉积方法中，通过高通量的氧气而使纯化的金属沉积。喷嘴能够形成为附加喷嘴，使得能够将现有的GIS升级。优选地通过使用例如钛的3‑D打印技术而制造喷嘴。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 粒子 光学仪器 gis | ||
【主权项】：
一种喷气系统(GIS)，用于在粒子光学仪器的真空室中施用至少两种流体，所述喷气系统具有两个或更多个通道(102,110)，各个通道在第一侧连接至容纳流体的相关联的贮藏器，并且在另一侧具有相关联的出口开口，出口侧经由具有喷嘴开口的喷嘴而单独地退出至所述GIS的外侧，所述出口开口中的一个(106)与另一个出口开口(108)同中心，其特征在于，第一通道(102)与用于对所述GIS进行定位的定位单元连接，并且至少一个其他的通道(110)可拆卸地安装于所述第一通道上。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
