[发明专利]一种有机金属化合物伴生物的收集装置及气相沉积系统有效
申请号: | 201610073029.1 | 申请日: | 2016-02-02 |
公开(公告)号: | CN107022752B | 公开(公告)日: | 2018-04-20 |
发明(设计)人: | 林桂荣;邢志刚;徐春阳 | 申请(专利权)人: | 中晟光电设备(上海)股份有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44 |
代理公司: | 北京品源专利代理有限公司11332 | 代理人: | 张海英,林波 |
地址: | 200120 上海市浦东新*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种有机金属化合物伴生物的收集装置及气相沉积系统,涉及气相沉积技术领域。该收集装置包括外壳,所述外壳的两端设有气体进口和气体出口,所述外壳内壁上分层固定有多个挡板,所述挡板与进气方向夹角小于180°,每个挡板上均设有开口,不同挡板之间的间隙以及挡板上的开口构成流动通道,所述流动通道的截面面积沿气体的流动方向逐渐增大,相邻的所述挡板上的开口相互错开设置。本发明提出的有机金属化合物伴生物的收集装置及气相沉积系统,能够沉积不同的伴生物,减少后续滤芯的负担,延长滤芯的使用寿命,且该收集装置能够重复利用,节约成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 有机 金属 化合物 伴生 收集 装置 沉积 系统 | ||
【主权项】:
一种有机金属化合物伴生物的收集装置,包括外壳(1),所述外壳(1)的两端设有气体进口(2)和气体出口(3),其特征在于,所述外壳(1)内壁上分层固定有多个挡板(4),所述挡板(4)与进气方向夹角小于180°,每个挡板(4)上均设有开口(5),不同挡板(4)之间的间隙以及挡板(4)上的开口(5)构成流动通道,所述流动通道的截面面积沿气体的流动方向逐渐增大,相邻的所述挡板(4)上的开口(5)相互错开设置,并且所述外壳(1)为相互扣合的两部分,两部分所述外壳(1)分离处为清洁口(6),所述清洁口(6)贯穿气体进口(2)的端面和气体出口(3)的端面。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
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