[发明专利]一种光解水用大面积钒酸铋薄膜的简易制备方法

摘要

本发明公开一种光解水用大面积钒酸铋薄膜的简易制备方法，采用射频磁控溅射法生长钒酸铋薄膜，包括如下步骤：S1，将氧化钒和氧化铋的混合粉末压制成靶材胚体，再将靶材胚体置于800-900℃烧结，得到靶材；S2，以导电玻璃为衬底，在氩气和氧气的混合气氛或纯氩气气氛下进行射频磁控溅射生长薄膜；S3，将生长的薄膜置于空气中退火，退火温度为500-600℃。本发明方法可以实现大面积单斜白钨矿型钒酸铋薄膜的制备。用此方法制备的薄膜晶体质量高、薄膜均匀、与衬底的附着性好，在光解水方面有很好的应用前景。

主权项

一种光解水用大面积钒酸铋薄膜的简易制备方法，采用射频磁控溅射法生长钒酸铋薄膜，包括如下步骤：S1，将氧化钒和氧化铋的混合粉末压制成靶材胚体，再将靶材胚体置于800‑900℃烧结，得到靶材；S2，以导电玻璃为衬底，在氩气和氧气的混合气氛或者纯氩气气氛下进行射频磁控溅射生长薄膜；S3，将生长的薄膜置于空气中退火，退火温度为500‑600℃。