[发明专利]大角度多波段红外高增透膜系的制备方法

摘要

本发明公开的一种大角度多波段红外高增透膜系的制备方法，旨在提供一种具有很宽的多波段范围，能够提高膜层牢固性能力及野外恶劣环境使用寿命长的制备方法。本发明通过下述技术方案予以实现(1)以IG5或IG6材料为基底，用膜系设计公式 G/0.05M、0.2703L 6.3405H、0.7965L、3.0094H、11.6216L、0.4436H、2.4786L、0.05M /A计算每层膜的光学厚度值；清洁被镀基底；加温烘烤基底；用离子源在镀膜前和镀膜过程中轰击基底；将ZnSe、Al2O3和YbF3三种膜料放入旋转电子枪蒸发源坩锅中，根据上述的公式顺序和厚度值用光学真空镀膜机完成镀膜。本发明解决了在红外材料IG5或IG6基底上使用非金属和非半导体膜层材料镀膜不牢和较难达到高透过率的工艺难题。

主权项

一种大角度多波段红外高增透膜系的制备方法，其特征在于包括如下步骤：（1）膜系参考波长λc=800，以红外玻璃IG5或红外玻璃 IG6为基底，用膜系设计公式：G/0.05M 、0.2703L、6.3405H、0.7965L、3.0094H、11.6216L、0.4436H、2.4786L、0.05M/A，计算每层膜的光学厚度值，并按上述顺序列表格，其中，G为IG5或IG6基底，M为Al2O3膜料，H为ZnSe膜料，L为YbF3膜料，A为折射率NA=1的空气介质；（2）采用超声波清洗基底工艺、考夫曼离子源辅助蒸镀工艺、光学膜层张应力、压应力匹配工艺、光学膜层粘接打底工艺、高温预热工艺和高低温退火工艺制备高增透膜；将上述M、H、L膜料依次放入镀膜机真空室的电子枪蒸发源坩锅内，先采用预镀层技术，在基底IG5和 IG6 上沉积光学厚度值6.2nm的Al2O3膜层；（3）在光学膜层粘接打底工艺和应力匹配工艺中，根据前述膜系设计公式计算出各层膜的光学厚度值和表格顺序，然后，将Al2O3、ZnSe和YbF3三种膜料依次放入旋转电子枪蒸发源坩锅中，用清洗液清洁被镀基底，吹干，放入光学真空镀膜机的真空室抽真空待镀；在真空环境下，在30℃～200℃范围内逐渐升温烘烤，加温烘烤基底，在离子源辅助蒸镀工艺中，用离子源在镀膜前和镀膜过程中轰击基底，一直让其产生的离子束轰击基底到镀膜完成。