[发明专利]一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示器有效
| 申请号： | 201610012313.8 | 申请日： | 2016-01-08 |
| 公开（公告）号： | CN105629557B | 公开（公告）日： | 2018-12-21 |
| 发明（设计）人： | 张思凯 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 | 代理人： | 申健 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本发明的实施例提供一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示器，在不需要引入OC层的情况下，可减小彩色滤光层制作过程中，由于在与黑矩阵搭接位置处凸起的存在而相对其平坦部分产生的段差。彩膜基板的制备方法包括：在衬底基板上形成黑矩阵以及位于所述黑矩阵上方的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案；其中，各滤光图案在与所述黑矩阵的搭接位置处具有凸起；所述方法还包括：形成刻蚀保护层，所述刻蚀保护层露出所述凸起；对露出的所述凸起进行刻蚀，以使各滤光图案的表面平坦；去除所述刻蚀保护层。用于彩膜基板及其所应用的液晶显示器。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 彩膜基板 及其 制备 方法 液晶显示器 | ||
【主权项】：
1.一种彩膜基板的制备方法，包括：在衬底基板上形成黑矩阵以及位于所述黑矩阵上方的彩色滤光层，所述彩色滤光层包括第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案；其中，各滤光图案在与所述黑矩阵的搭接位置处具有凸起；其特征在于，所述方法还包括：形成刻蚀保护层，所述刻蚀保护层露出所述凸起；对露出的所述凸起进行刻蚀，以使各滤光图案的表面平坦；去除所述刻蚀保护层。
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