[发明专利]一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示器有效

专利信息
申请号: 201610012313.8 申请日: 2016-01-08
公开(公告)号: CN105629557B 公开(公告)日: 2018-12-21
发明(设计)人: 张思凯 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
主分类号: G02F1/1335 分类号: G02F1/1335
代理公司: 北京中博世达专利商标代理有限公司 11274 代理人: 申健
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 彩膜基板 及其 制备 方法 液晶显示器
【说明书】:

发明的实施例提供一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示器,在不需要引入OC层的情况下,可减小彩色滤光层制作过程中,由于在与黑矩阵搭接位置处凸起的存在而相对其平坦部分产生的段差。彩膜基板的制备方法包括:在衬底基板上形成黑矩阵以及位于所述黑矩阵上方的彩色滤光层,所述彩色滤光层包括第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案;其中,各滤光图案在与所述黑矩阵的搭接位置处具有凸起;所述方法还包括:形成刻蚀保护层,所述刻蚀保护层露出所述凸起;对露出的所述凸起进行刻蚀,以使各滤光图案的表面平坦;去除所述刻蚀保护层。用于彩膜基板及其所应用的液晶显示器。

技术领域

本发明涉及显示技术领域,尤其涉及一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示器。

背景技术

液晶显示器(Liquid Crystal Display,简称LCD)具有体积小、功耗低、无辐射等特点,在当前的显示器市场中占据主导地位。

液晶显示器包括阵列基板和彩膜基板,其中,彩膜基板包括黑矩阵和彩色滤光层,彩色滤光层包括第一基色例如红色滤光图案、第二基色例如绿色滤光图案和第三基色例如蓝色滤光图案。如图1所示,其制备方法为:在衬底基板10上形成黑矩阵20,在黑矩阵20上方形成红色滤光图案31、绿色滤光图案31和蓝色滤光图案33;其中,红色滤光图案31、绿色滤光图案32和蓝色滤光图案33按顺序依次形成。

如图1所示,由于先形成黑矩阵20,使得后续在形成红色滤光图案31、绿色滤光图案32和蓝色滤光图案33时,在与黑矩阵20搭接的位置会产生凸起34,该凸起34相对各滤光图案的上表面的平坦部分存在一定的段差。由于该凸起34的存在,会导致在后续形成取向膜时出现涂布不均的情况,即在凸起34处,由于段差的原因取向膜没有被涂布上,从而当该彩膜基板应用于液晶显示器时会出现显示不良的现象。

为解决上述问题,有人提出在彩色滤光层上制作一层较厚的OC(Over Coating,涂覆保护)层,期望能够抹平上述的段差,然而,由于OC层太厚会使其中的气体挥发而导致液晶显示器的盒内产生真空气泡,因此OC层并不能做的太厚,因而也就并不能消除上述的段差。而且引入OC层也会导致整个液晶显示器厚度增加,不利于液晶显示器的薄型化。

发明内容

本发明的实施例提供一种彩膜基板及其制备方法、液晶显示器,在不需要引入OC层的情况下,可减小彩色滤光层的各滤光图案制作过程中,由于在与黑矩阵搭接位置处凸起的存在而相对其平坦部分产生的段差。

为达到上述目的,本发明的实施例采用如下技术方案:

第一方面,提供一种彩膜基板的制备方法,包括:在衬底基板上形成黑矩阵以及位于所述黑矩阵上方的彩色滤光层,所述彩色滤光层包括第一基色滤光图案、第二基色滤光图案和第三基色滤光图案;其中,各滤光图案在与所述黑矩阵的搭接位置处具有凸起;所述方法还包括:形成刻蚀保护层,所述刻蚀保护层露出所述凸起;对露出的所述凸起进行刻蚀,以使各滤光图案的表面平坦;去除所述刻蚀保护层。

优选的,形成刻蚀保护层,包括:以掩模板为遮挡,使其开口与形成有所述彩色滤光层的基板的除所述凸起之外的其余部分对应;采用蒸镀方法,形成所述刻蚀保护层。

优选的,采用光刻胶剥离液对露出的所述凸起进行刻蚀。

优选的,所述刻蚀保护层的材料为金属或金属氧化物。

进一步优选的,所述刻蚀保护层的材料为ITO。

基于上述,优选的,在去除所述刻蚀保护层后,所述方法还包括:形成隔垫物,所述隔垫物与所述黑矩阵对应。

优选的,第一基色、第二基色和第三基色互为红色、绿色和蓝色。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司,未经京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201610012313.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top