[发明专利]一种可控制备正交相硫化亚锡二维单晶纳米片的方法有效

专利信息
申请号: 201610009580.X 申请日: 2016-01-07
公开(公告)号: CN105420815B 公开(公告)日: 2018-01-30
发明(设计)人: 孟祥敏;夏静;李玄泽;朱丹丹;王磊 申请(专利权)人: 中国科学院理化技术研究所
主分类号: C30B29/46 分类号: C30B29/46;C30B29/64;C30B23/00
代理公司: 北京正理专利代理有限公司11257 代理人: 张文祎,赵晓丹
地址: 100190 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开一种可控制备正交相硫化亚锡(SnS)二维单晶纳米片的方法。该方法包括将衬底置于水平管式炉的加热中心下游,距离加热中心8‑20cm,将SnS粉末放入耐高温容器中,将容器置于水平管式炉的加热中心;对管式炉抽真空,待炉内压强降至0.1Pa时,充入不活泼气体使管式炉腔内压强回到20‑300Torr,并保持气体流速在20‑200sccm间;将水平管式炉加热中心升温至600‑800℃,反应时间为5‑30分钟,待管式炉腔内温度自然降温到室温后,取出衬底,衬底表面即生长有硫化亚锡二维单晶纳米片。该法操作简单、成本较低、可控性较强,获得的SnS具有尺寸大、均匀性好、结晶度高等优点,在场效应晶体管、光电探测器、光催化制氢、锂离子电池等领域中具有重要的研究价值和广泛的应用前景。
搜索关键词: 一种 可控 制备 交相 硫化 二维 纳米 方法
【主权项】:
一种可控制备正交相硫化亚锡二维单晶纳米片的方法,其特征在于,所述方法包括如下步骤:1)选取具有原子级平整光滑的衬底作为SnS的生长衬底;2)将衬底置于水平管式炉的加热中心下游,距离加热中心8‑20cm,将SnS粉末放入耐高温容器中,将耐高温容器置于水平管式炉的加热中心;3)对管式炉抽真空,待炉内压强降至0.1Pa时,充入不活泼气体使管式炉腔内压强回到20‑300Torr,并保持不活泼气体流速在20‑200sccm间;4)将水平管式炉加热中心升温至600‑800℃,升温速率保持为5‑20℃/min间,反应时间为5‑30分钟;5)反应结束后,待管式炉腔内温度自然降温到室温后,取出衬底,衬底表面即生长SnS二维单晶纳米片。
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