[发明专利]一种显示基板及其制作方法、液晶盒、显示器在审
| 申请号： | 201610008826.1 | 申请日： | 2016-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN105467686A | 公开（公告）日： | 2016-04-06 |
| 发明（设计）人： | 董廷泽;黄雪骄;秦兴;张志男;王修亮 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | 本申请公开了一种显示基板及其制作方法、液晶盒、显示器，用以有效改善Ghost Mura，并且对于取向膜印刷偏移、边缘不均以及膜厚不均区域等缺陷均可以完全避免，进而提高液晶显示装置的图像质量特性。本申请提供的一种显示基板制作方法，包括：在衬底基板的所有区域进行取向膜涂覆；对完成取向膜全涂覆的衬底基板进行辊印工艺；采用曝光方法对所述衬底基板上的显示区域的取向膜进行曝光；采用剥离工艺剥离所述衬底基板上位于显示区域之外的取向膜；在所述衬底基板上的显示区域形成取向膜。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 显示 及其 制作方法 液晶 显示器 | ||
【主权项】：
一种显示基板制作方法，其特征在于，该方法包括：在衬底基板的所有区域进行取向膜涂覆；对完成取向膜全涂覆的衬底基板进行辊印工艺；采用曝光方法对所述衬底基板上的显示区域的取向膜进行曝光；采用剥离工艺剥离所述衬底基板上位于显示区域之外的取向膜；在所述衬底基板上的显示区域形成取向膜。
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