[发明专利]一种显示基板及其制作方法、液晶盒、显示器在审
| 申请号： | 201610008826.1 | 申请日： | 2016-01-07 |
| 公开（公告）号： | CN105467686A | 公开（公告）日： | 2016-04-06 |
| 发明（设计）人： | 董廷泽;黄雪骄;秦兴;张志男;王修亮 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;北京京东方光电科技有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337;G02F1/1333 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 显示 及其 制作方法 液晶 显示器 | ||
1.一种显示基板制作方法，其特征在于，该方法包括：
在衬底基板的所有区域进行取向膜涂覆；
对完成取向膜全涂覆的衬底基板进行辊印工艺；
采用曝光方法对所述衬底基板上的显示区域的取向膜进行曝光；
采用剥离工艺剥离所述衬底基板上位于显示区域之外的取向膜；
在所述衬底基板上的显示区域形成取向膜。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述衬底基板为阵列基板或彩膜基板。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述曝光方法，为采用紫外线UV光进行曝光的方法。
4.根据权利要求3所述的方法，其特征在于，所述UV光的波长为146nm～365nm。
5.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述掩模板与所述衬底基板的距离小于或等于50um。
6.根据权利要求1～5任一权项所述的方法，其特征在于，在所述衬底基板上的显示区域形成取向膜之后，该方法还包括：对在显示区域形成有取向膜的衬底基板，进行液晶滴下工艺。
7.一种显示基板，其特征在于，该基板是采用权利要求1所述方法制得的显示基板。
8.根据权利要求7所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板为阵列基板或彩膜基板。
9.一种液晶盒，包括阵列基板和彩膜基板，其特征在于，所述阵列基板和/或所述彩膜基板，为采用权利要求1所述方法制得的基板。
10.一种显示器，其特征在于，包括权利要求9所述液晶盒。
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