[发明专利]发光二极管显示基板及其制作方法、显示装置有效

专利信息
申请号: 201610006393.6 申请日: 2016-01-04
公开(公告)号: CN105449127B 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 方金钢;宋泳锡;孙宏达;李伟 申请(专利权)人: 京东方科技集团股份有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;H01L27/32;H01L51/52
代理公司: 北京天昊联合知识产权代理有限公司11112 代理人: 彭瑞欣,陈源
地址: 100015 *** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种发光二极管显示基板及其制作方法、显示装置。所述制作方法包括在形成有薄膜晶体管的基板上方依次形成平坦化层和光刻胶层,平坦化层的感光度高于光刻胶层的感光度;对平坦化层和光刻胶层同步进行曝光和显影,使光刻胶层上被去除的部位形成像素界定图形,并在平坦化层上对应于像素界定图形的位置形成阳极过孔图形,阳极过孔图形位于所述薄膜晶体管的源极上方;在完成上述步骤的基板上形成阳极图形层,阳极图形层包括多个阳极,所述阳极位于阳极过孔图形上,且与源极相连;对显影后的平坦化层进行后烘,使位于阳极过孔图形边缘的平坦化层材料覆盖阳极的边缘。本发明能够减少工艺步骤,降低生产成本。
搜索关键词: 发光二极管 显示 及其 制作方法 显示装置
【主权项】:
一种发光二极管显示基板的制作方法,其特征在于,包括以下步骤:在形成有薄膜晶体管的基板上方依次形成平坦化层和光刻胶层,所述平坦化层的感光度高于所述光刻胶层的感光度;对所述平坦化层和所述光刻胶层同步进行曝光和显影,使所述光刻胶层上被去除的部位形成像素界定图形,并在所述平坦化层上对应于所述像素界定图形的位置形成阳极过孔图形,所述阳极过孔图形位于所述薄膜晶体管的源极上方,以露出所述薄膜晶体管的源极的至少一部分;在完成上述步骤的基板上形成阳极图形层,所述阳极图形层包括多个阳极,所述阳极位于所述阳极过孔图形上,且与所述源极相连;对显影后的平坦化层进行后烘,使位于所述阳极过孔图形边缘的平坦化层材料覆盖所述阳极的边缘。
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