[发明专利]用于将光学组件重新聚焦的方法有效
| 申请号： | 201580076750.X | 申请日： | 2015-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN107873088B | 公开（公告）日： | 2021-06-01 |
| 发明（设计）人： | 阿诺·德沃 | 申请（专利权）人： | 国家科学研究中心;里尔第一大学;里尔高等电子与数字学院 |
| 主分类号： | G02B27/40 | 分类号： | G02B27/40;G02B26/06;G02B21/24;G02B7/28;G01J3/02;G01J3/42 |
| 代理公司： | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人： | 王小衡;任庆威 |
| 地址： | 法国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： |
本发明涉及一种使用来源于短脉冲光源(2)的至少一个光束(f |
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| 搜索关键词： | 用于 光学 组件 重新 聚焦 方法 | ||
【主权项】：
一种使用来源于短脉冲光源(2)的至少一个光束(fu)将光学机构重新聚焦在目标表面(100)上的方法，所述光学机构包括用于将所述光束(fu)聚焦在所述目标表面(100)上的至少一个光学器件(5)，所述重新聚焦在知悉了所述光学机构被视为聚焦的参考条件(d1)之后被应用，在方法中：‑检测聚焦信号，其表示由所述目标表面(100)反射的光束(fr)与不由所述目标表面(100)反射且从所述短脉冲光源(2)导出的参考光束(fref)之间的脉冲的时间叠加，所述光束中的一个由延迟线(14)延迟，‑基于所述参考条件，使得其上放置了所述延迟线(14)的所述光束的光学路径变化以导致所述聚焦信号到达或超过预定义阈值，以及‑基于对在所述参考条件(d1)与所述聚焦信号到达或超过所述预定义阈值的条件(d2)之间的光学路径的变化的知悉，重新调节所述聚焦。
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