[发明专利]用于对大面积基板覆层的CVD或PVD覆层设备有效
| 申请号： | 201580069344.0 | 申请日： | 2015-11-18 |
| 公开（公告）号： | CN107109649B | 公开（公告）日： | 2021-01-05 |
| 发明（设计）人： | W.弗兰肯;B.津特泽恩;H.W.A.詹森 | 申请（专利权）人： | 艾克斯特朗欧洲公司 |
| 主分类号： | C23C16/52 | 分类号： | C23C16/52;C23C16/455;C23C14/54 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人： | 李萌 |
| 地址： | 德国黑*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种CVD或PVD覆层设备，具有壳体(1、2)和固定在壳体(1、2)上的进气机构(7)。进气机构(7)具有具备排气口(8)的排气面(7’)。设有固定在壳体(1)的上部区段上、针对变形和温度稳定的固持装置(3)，进气机构(7)在多个悬吊位置(6’)上固定在固持装置(3)上，固持装置具有机械的稳定元件(4、5)，并且固持装置由固持框架构成，固持框架具有在竖向连接线上相互连接的竖向壁(4、5)，其中，固持装置(3)仅在其水平边缘(3’)上固定在壳体(1、2)上。进气机构(7)通过多个在整个水平延伸面上分布的悬吊件(6)固定在固持装置(3)上。在固持装置(3)和进气机构(7)之间设有主动冷却的隔热件。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 大面积 覆层 cvd pvd 设备 | ||
【主权项】：
暂无信息
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
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