[发明专利]用于对大面积基板覆层的CVD或PVD覆层设备有效

申请号：	201580069344.0	申请日：	2015-11-18
公开（公告）号：	CN107109649B	公开（公告）日：	2021-01-05
发明（设计）人：	W.弗兰肯;B.津特泽恩;H.W.A.詹森	申请（专利权）人：	艾克斯特朗欧洲公司
主分类号：	C23C16/52	分类号：	C23C16/52;C23C16/455;C23C14/54
代理公司：	北京市柳沈律师事务所 11105	代理人：	李萌
地址：	德国黑***	国省代码：	暂无信息
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摘要：
搜索关键词：	用于大面积覆层 cvd pvd 设备
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【权利要求书】：

1.一种CVD或PVD覆层设备，具有壳体(1、2)、固定在壳体(1、2)上的进气机构(7)和固定在壳体(1)的上部区段上的固持装置(3)，所述进气机构(7)具有具备排气口(8)的排气面(7’)，所述进气机构(7)在多个悬吊位置(6’)上固定在固持装置(3)上，其中，所述固持装置(3)借助可主动冷却的调温装置(11、12)稳定温度，其中，作为主动冷却的隔热件的调温装置(11、12)安置在进气机构(7)和固持装置(3)之间。

2.按照权利要求1所述的CVD或PVD覆层设备，其特征在于，所述调温装置(11、12)具有调温剂通道(12)。

3.按照权利要求1所述的CVD或PVD覆层设备，其特征在于，所述固持装置(3)具有机械的稳定元件(4、5)。

4.按照权利要求1所述的CVD或PVD覆层设备，其特征在于，所述固持装置(3)由固持框架构成，所述固持框架具有在竖向连接线上相互连接的竖向壁(4、5)。

5.按照权利要求1所述的CVD或PVD覆层设备，其特征在于，所述固持装置(3)仅在其水平边缘(3’)上固定在所述壳体(1、2)上。

6.按照权利要求1所述的CVD或PVD覆层设备，其特征在于，所述固持装置(3)通过弹性的固定件(13、14)固定在所述壳体(1、2)上。

7.按照权利要求1所述的CVD或PVD覆层设备，其特征在于，所述进气机构(7)通过多个在整个水平延伸面上分布的悬吊件(6)固定在所述固持装置(3)上，其中，所述悬吊件(6)沿竖向从悬挂位置(6’)延伸至所述固持装置(3)。

8.按照权利要求1所述的CVD或PVD覆层设备，其特征在于，一个或多个隔热件(10、11)安置在进气机构(7)和固持装置(3)之间的竖向间隔空间内。

9.按照权利要求1所述的CVD或PVD覆层设备，其特征在于，由调温装置(11)构成的隔热件与固持装置(3)直接相邻。

10.按照权利要求1所述的CVD或PVD覆层设备，其特征在于，两个直接相邻的悬挂位置(6’)最大以进气机构(7)的等量圆对角线的五分之一彼此间隔。

11.按照权利要求1所述的CVD或PVD覆层设备，其特征在于，所述固持装置(3)具有腔室结构，该腔室结构具有沿竖向延伸的腔室壁(4、5)和沿水平延伸的腔室面，所述腔室面最大等于固持装置(3)的基础面的二十五分之一。

12.按照权利要求11所述的CVD或PVD覆层设备，其特征在于，所述腔室面最大等于固持装置(3)的基础面的百分之一。

13.一种运行如前述权利要求之一所述的CVD或PVD覆层设备的方法，其特征在于，固持装置(3)借助调温装置(11、12)保持在均一的温度上，使得固持装置的最冷点与固持装置的最热点最多相差5度。