[发明专利]芳族杂环通过地球丰富的无过渡金属的催化剂的甲硅烷基化有效
申请号: | 201580054384.8 | 申请日: | 2015-08-05 |
公开(公告)号: | CN107108662B9 | 公开(公告)日: | 2020-05-15 |
发明(设计)人: | R·H·格鲁布斯;亚历克斯·费多罗夫;安东·陶拓夫;刘文博;凯丽·贝茨;布莱恩·M·斯托尔茨 | 申请(专利权)人: | 加州理工学院 |
主分类号: | C07F7/08 | 分类号: | C07F7/08;C07F7/02;C07D209/04;C07D471/04;C07D333/50;C07D333/76 |
代理公司: | 北京安信方达知识产权代理有限公司 11262 | 代理人: | 高瑜;郑霞 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明描述了用于使芳族有机基质甲硅烷基化的化学体系和方法,所述体系或方法包含(a)至少一种有机硅烷和(b)至少一种强碱的混合物或基本上由(a)至少一种有机硅烷和(b)至少一种强碱的混合物组成,强碱的定义现在还包括氢氧化物,尤其KOH,所述体系优选地,但不必要地大体上无过渡金属化合物,并且所述方法包括在足以使芳族基质甲硅烷基化的条件下,使一定量的有机基质与(a)至少一种有机硅烷和(b)至少一种强碱的混合物接触;其中所述体系大体上无过渡金属化合物。 | ||
搜索关键词: | 芳族杂环 通过 地球 丰富 过渡 金属 催化剂 硅烷 | ||
【主权项】:
1.一种用于使芳族有机基质甲硅烷基化的方法,所述方法包括使包含芳环部分的有机基质与包含(a)至少一种含氢硅烷和(b)氢氧化钾KOH的混合物在从40℃至165℃的范围内的温度接触,所述方法导致甲硅烷基化的有机基质的形成,/n其中,芳族部分包括任选地被取代的苯、联苯、萘、蒽、呋喃、吡咯、噻吩、吡唑、咪唑、三唑、异噁唑、噁唑、噻唑、异噻唑、噁二唑、吡啶、哒嗪、嘧啶、吡嗪、三嗪酮、苯并呋喃、苯并吡咯、苯并噻吩、异苯并呋喃、异苯并吡咯、异苯并噻吩、吲嗪、吲唑、氮杂吲哚、苯并异噁唑、苯并噁唑、喹啉、异喹啉、噌啉、喹唑啉、萘啶、2,3-二氢苯并呋喃、2,3-二氢苯并吡咯、2,3-二氢苯并噻吩、二苯并呋喃、呫吨、二苯并吡咯或二苯并噻吩部分;/n其中所述甲硅烷基化的有机基质具有在对应于具有碳-氢键的所述芳环部分上的位置的位置中的碳-硅键,除非/n(a)所述有机基质是包含具有烷基取代基的碳环芳基部分的烃,在这种情况下,所述甲硅烷基化的有机基质具有在所述烷基取代基的相对于所述碳环芳基部分的α碳上的碳-硅键;或/n(b)所述芳环部分是具有连接到所述芳环部分的环碳原子上的烷基硫醚取代基的芳环部分,在这种情况下,所述甲硅烷基化的有机基质具有在相对于硫醚的硫的α碳上的碳-硅键;或/n(c)所述芳环部分是具有连接到所述芳环部分的环碳原子上的烷基取代基的杂芳基部分,在这种情况下,所述甲硅烷基化的有机基质具有以下中的一种或两种:/n(i)在所述烷基取代基的相对于所述杂芳基部分的α碳上的碳-硅键;或/n(ii)在对应于具有碳-氢键的所述芳环部分的位置的位置中的碳-硅键。。/n
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