[发明专利]包含Al-Te-Cu-Zr基合金的溅射靶及其制造方法有效
| 申请号： | 201580053709.0 | 申请日： | 2015-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN106795622B | 公开（公告）日： | 2019-10-01 |
| 发明（设计）人： | 小井土由将 | 申请（专利权）人： | 捷客斯金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;B22F3/10;B22F3/14;B22F5/00;C22C1/04;C22C28/00;C22C30/00;C22F1/00 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人： | 胡嵩麟;王海川 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种溅射靶，其特征在于，所述溅射靶含有20原子％～40原子％Te，含有5原子％～20原子％Cu，含有5原子％～15原子％Zr，剩余部分包含Al，溅射靶组织由Al相、Cu相、CuTeZr相、CuTe相和Zr相构成。本发明的课题在于提供一种有效地抑制了由组成偏差引起的特性劣化的Al‑Te‑Cu‑Zr基合金溅射靶及其制造方法。 | ||
| 搜索关键词： | 包含 al te cu zr 合金 溅射 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种溅射靶，其特征在于，所述溅射靶含有20原子％～40原子％Te，含有5原子％～20原子％Cu，含有5原子％～15原子％Zr，剩余部分包含Al，溅射靶组织由Al相、Cu相、CuTeZr相、CuTe相和Zr相构成。
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