[发明专利]于抗蚀剂应用中作为光酸生成剂的磺酸衍生化合物

摘要

本发明提供新颖光酸生成剂化合物。还提供包括所述新颖光酸生成剂化合物的光致抗蚀剂组合物。本发明进一步提供制造及使用本文所揭示的光酸生成剂化合物及光致抗蚀剂组合物的方法。所述化合物及组合物在用于多种微制造应用的化学增幅型抗蚀剂组合物中用作光敏性组分。

主权项

一种由式(I)或式(II)表示的磺酸衍生化合物，其中X为氧(O)或硫(S)原子；R1、R2、R3、R4及R5各自为氢(H)原子；R0选自由以下组成的群组：具有1至3的碳数的脂肪族基团，其中一或多个氢原子可经卤素原子取代；具有2至18的碳数的脂肪族基团，其包含至少一个选自由‑S‑、‑C(＝O)‑S‑、‑O‑S(＝O)2‑、‑O‑C(＝O)‑O‑、‑C(＝O)‑NH‑、‑C(＝O)‑NRa‑及‑C(＝O)‑NRaRb组成的群组的部分，其中Ra及Rb各自独立地为具有1至10的碳数的脂肪族基团，其可相同或不同并且可连接形成脂环基团，并且其中所述脂肪族基团任选包含至少一个卤素原子；及由式(A)表示的基团：‑R11‑Ar(A)，其中R11为单键或具有1至20的碳数的脂肪族基团，其可包含至少一个选自由‑O‑、‑S‑、‑C(＝O)‑O‑、‑C(＝O)‑S‑、‑O‑S(＝O)2‑、‑O‑C(＝O)‑O‑、‑C(＝O)‑NH‑、‑O‑C(＝O)‑NH‑、‑C(＝O)‑NRa‑及C(＝O)‑NRa‑组成的群组的部分，其中Ra如上文所定义，并且其中如果所述至少一个部分是多于一个，则其可由脂肪族基团分开；并且Ar为芳基或杂芳基，其中一或多个氢原子可经卤素原子、脂肪族基团、卤烷基、烷氧基、卤烷氧基、烷硫基、双烷基氨基、酰氧基、酰硫基、酰胺基、烷氧基羰基、烷基磺酰基、烷基亚磺酰基、脂环基、杂环基、芳基、烷芳基、氰基或硝基取代；由式(B)表示的基团：其中R21及R22各自独立地为具有1至5的碳数的脂肪族基团；Y21为氧(O)原子；R23为具有1至10的碳数的脂肪族基团；并且R24为具有1至18的碳数的脂肪族基团，其包含至少一个选自由‑O‑、‑S‑、‑C(＝O)‑S‑、‑O‑S(＝O)2‑、‑O‑C(＝O)‑O‑、‑C(＝O)‑NH‑、‑O‑C(＝O)‑NH‑、‑C(＝O)‑NRa‑、‑O‑C(＝O)‑NRa‑及‑C(＝O)‑NRaRb组成的群组的部分，其中Ra及Rb如上文所定义，并且其中如果所述至少一个部分是多于一个，则其可由脂肪族基团分开；由式(C)表示的基团：其中R31为具有2至18的碳数的脂肪族基团，其可包含至少一个选自由‑O‑、‑S‑、‑C(＝O)‑S‑、‑O‑S(＝O)2‑、‑O‑C(＝O)‑O‑、‑C(＝O)‑NH‑、‑O‑C(＝O)‑NH‑、‑C(＝O)‑NRa‑及‑O‑C(＝O)‑NRa‑组成的群组的部分，其中Ra如上文所定义，并且其中如果所述至少一个部分是多于一个，则其可由脂肪族基团分开；Y31为氧(O)原子；R32为具有1至18的碳数的脂肪族基团，其包含至少一个选自由‑O‑、‑S‑、‑C(＝O)‑O‑、‑C(＝O)‑S‑、‑O‑S(＝O)2‑、‑O‑C(＝O)‑O‑、‑C(＝O)‑NH‑、‑O‑C(＝O)‑NH‑、‑C(＝O)‑NRa‑、‑O‑C(＝O)‑NRa‑及‑C(＝O)‑NRaRb组成的群组的部分，其中Ra及Rb如上文所定义，并且其中如果所述至少一个部分是多于一个，则其可由脂肪族基团分开；并且R6选自由以下组成的群组：具有1至18的碳数的脂肪族基团，其可经一或多个卤素原子取代；具有3至18的碳数的脂肪族基团，其包含至少一个选自由‑O‑、‑S‑、‑C(＝O)‑O‑、‑C(＝O)‑S‑、‑O‑S(＝O)2‑、‑O‑C(＝O)‑O‑、‑C(＝O)‑NH‑、‑O‑C(＝O)‑NH‑、‑C(＝O)‑NRa‑、‑O‑C(＝O)‑NRa‑及‑C(＝O)‑NRaRb组成的群组的部分，其中Ra及Rb如上文所定义，其中所述脂肪族基团任选包含至少一个卤素原子；具有4至18的碳数的芳基或杂芳基，其中一或多个氢原子可经卤素原子、脂肪族基团、卤烷基、烷氧基、卤烷氧基、烷硫基、双烷基氨基、酰氧基、酰硫基、酰胺基、烷氧基羰基、烷基磺酰基、烷基亚磺酰基、脂环基、杂环基、芳基、烷芳基、氰基或硝基取代；及具有4至18的碳数的芳烷基或杂芳烷基，其中所述芳基或杂芳基中的一或多个氢原子可经卤素原子、脂肪族基团、卤烷基、烷氧基、卤烷氧基、烷硫基、双烷基氨基、酰氧基、酰硫基、酰胺基、烷氧基羰基、烷基磺酰基、烷基亚磺酰基、脂环基、杂环基、芳基、烷芳基、氰基或硝基取代。