[发明专利]于抗蚀剂应用中作为光酸生成剂的磺酸衍生化合物

权利要求书

1.一种由式(I)表示的磺酸衍生化合物，

其中

X为硫(S)原子；

R¹、R²、R³、R⁴及R⁵各自为氢(H)原子；

R⁰选自由以下组成的群组：

具有1至3的碳数的烷基，其中一或多个氢原子可经卤素原子取代；

R⁶选自由以下组成的群组：

具有1至18的碳数的脂肪族基团，其可经一或多个卤素原子取代；及

具有4至18的碳数的芳基，其中一或多个氢原子可经卤素原子或脂肪族基团取代。

2.根据权利要求1所述的磺酸衍生化合物，其中式(I)中的R⁰为具有1至3个碳原子的烷基。

3.根据权利要求2所述的磺酸衍生化合物，其中R⁰选自由甲基、丙基及异丙基组成的群组。

4.根据权利要求2所述的磺酸衍生化合物，其中R⁶为具有1至18的碳数的脂肪族基团，其可经一或多个卤素原子取代。

5.根据权利要求4所述的磺酸衍生化合物，其中R⁶为具有1至6的碳数的脂肪族基团。

6.一种磺酸衍生化合物，其选自由以下组成的群组：

及

7.一种光致抗蚀剂组合物，其包含：

(i)至少一种光酸生成剂，所述光酸生成剂包含根据权利要求1-6任一项所述的磺酸衍生化合物；

(ii)至少一种光致抗蚀剂聚合物或共聚物，其能够在酸存在下赋予改变的水溶液溶解度；

(iii)有机溶剂；及任选地，

(iv)添加剂。

8.根据权利要求7所述的组合物，其中所述至少一种光致抗蚀剂聚合物或共聚物为聚(羟基苯乙烯)-树脂，其中所述羟基的至少一部分经保护基取代。

9.根据权利要求8所述的组合物，其中所述保护基选自由叔丁氧基羰氧基、叔丁氧基、叔戊氧基羰氧基及缩醛基团组成的群组。

10.根据权利要求7所述的组合物，其中所述至少一种有机溶剂(iii)选自由酮、醚及酯组成的群组。

11.根据权利要求7所述的组合物，其包含：

0.05重量％至15重量％的所述至少一种光酸生成剂；

5重量％至50重量％的所述至少一种光致抗蚀剂聚合物或共聚物；

0重量％至10重量％的所述添加剂；及

剩余有机溶剂。

12.一种在衬底表面上产生图案化结构的方法，所述方法包含以下步骤：

(a)将根据权利要求7-11任一项所述的组合物的层涂覆至所述衬底表面上并至少部分地移除有机溶剂(iii)；

(b)将所述层曝露于电磁辐射，由此将酸自化合物(i)释放至曝露于所述电磁辐射的区域中；

(c)任选加热所述层以在释放所述酸的所述区域中赋予化合物(ii)增加的水溶液溶解度；及

(d)在这些区域中用水溶液至少部分地移除所述层。