[发明专利]用于减少或防止光学物品的防污层的劣化的方法有效
申请号: | 201580041058.3 | 申请日: | 2015-08-04 |
公开(公告)号: | CN106662670B | 公开(公告)日: | 2018-11-13 |
发明(设计)人: | G·艾尔维厄;C·瓦伦蒂;P-J·卡尔巴;N·迈特尔 | 申请(专利权)人: | 依视路国际公司 |
主分类号: | G02B1/10 | 分类号: | G02B1/10;B29D11/00 |
代理公司: | 北京市中咨律师事务所 11247 | 代理人: | 张雪珍;张振军 |
地址: | 法国沙*** | 国省代码: | 法国;FR |
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摘要: | 本发明涉及一种用于生产适合于磨边的光学物品的方法,该光学物品包括防污层,在该防污层上沉积有用于帮助磨边的临时覆盖层,该方法包括:在光学基底上沉积包含至少一种氟化聚合物化合物的有机防污层,该至少一种氟化聚合物化合物包含可水解官能团;并且在该防污层上沉积无机性质的用于帮助磨边的覆盖层,该覆盖层包含一种或多种金属氟化物和/或一种或多种金属氧化物或氢氧化物;该方法的特征在于,该方法进一步包括该防污层的加速接枝的步骤,该步骤选自:(a)在该沉积的防污层的潮湿气氛中的该沉积的防污层的处理,以及(b)该沉积的防污层的在酸性或碱性蒸气相中的催化处理。 | ||
搜索关键词: | 用于 减少 防止 光学 物品 防污 方法 | ||
【主权项】:
1.一种用于制造适合于磨边的光学物品的方法,该光学物品包括防污层,在该防污层上沉积有助于磨边的临时顶涂层,该方法包括:‑在光学基底上沉积包含至少一种氟聚合物化合物的有机的防污层,该至少一种氟聚合物化合物包含可水解官能团;并且‑在该防污层上沉积无机性质的有助于磨边的临时顶涂层,该临时顶涂层包含一种或多种金属氟化物和/或一种或多种金属氧化物或氢氧化物;该方法的特征在于,该方法额外包括,在沉积所述有助于磨边的临时顶涂层之前,所述防污层的加速接枝步骤,该步骤选自:(a)该防污层的在湿气氛中的处理;(b)该沉积的防污层的酸性或碱性蒸气相中的催化处理。
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