[发明专利]用于减少或防止光学物品的防污层的劣化的方法

权利要求书

1.一种用于制造适合于磨边的光学物品的方法，该光学物品包括防污层，在该防污层上沉积有助于磨边的临时顶涂层，该方法包括：

-在光学基底上沉积包含至少一种氟聚合物化合物的有机的防污层，该至少一种氟聚合物化合物包含可水解官能团；并且

-在该防污层上沉积无机性质的有助于磨边的临时顶涂层，该临时顶涂层包含一种或多种金属氟化物和/或一种或多种金属氧化物或氢氧化物；

该方法的特征在于，该方法额外包括，在沉积所述有助于磨边的临时顶涂层之前，所述防污层的加速接枝步骤，该步骤选自：

(a)该防污层的在湿气氛中的处理；

(b)该沉积的防污层的酸性或碱性蒸气相中的催化处理。

2.如权利要求1所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该加速接枝步骤是在处于大气压下的空气气氛中进行的在湿气氛中的处理。

3.如权利要求1所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该防污层和该有助于磨边的临时顶涂层的沉积是在真空下进行，并且该防污层的加速接枝步骤是通过在沉积该防污层与沉积该有助于磨边的临时顶涂层之间的返回至在大气压下的空气气氛的步骤进行的该防污层的在湿气氛中的处理。

4.如权利要求1所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该防污层和该有助于磨边的临时顶涂层的沉积是在真空下在真空腔室中进行，并且该防污层的加速接枝步骤是在没有在沉积该防污层与沉积该有助于磨边的临时顶涂层之间的返回至大气压的步骤下通过将水释放到该真空腔室中进行的该防污层的在湿气氛中的处理。

5.如权利要求4所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该真空腔室包括低温阱并且该水的释放是通过除冰所述低温阱进行的。

6.如权利要求2或3所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该在处于大气压下的空气气氛中的处理是在从45％至95％的相对湿度(RH)程度和从15℃至75℃的温度下进行的。

7.如权利要求2至3中任一项所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该空气气氛处理的持续时间是从1至7天。

8.如权利要求7所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该空气气氛处理的持续时间是从3至5天。

9.如权利要求1至3中任一项所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，这些可水解官能团是烷氧基硅烷官能团。

10.如权利要求1至3中任一项所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，这些可水解官能团仅存在于该氟聚合物化合物的链的一个末端。

11.如权利要求1所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该酸性或碱性蒸气相是用HCl或NH₃饱和的空气，其中HCl或NH₃的液相呈在大气压和18℃-25℃的环境温度下的水溶液。

12.如权利要求11所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该水溶液是37％饱和的HCl水溶液。

13.如权利要求1-3中任一项所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该临时顶涂层由金属氟化物组成。

14.如权利要求13所述的用于制造适合于磨边的光学物品的方法，其特征在于，该临时顶涂层由MgF₂组成。