[发明专利]吡唑衍生物的制造方法在审
申请号: | 201580040330.6 | 申请日: | 2015-07-29 |
公开(公告)号: | CN107074844A | 公开(公告)日: | 2017-08-18 |
发明(设计)人: | 佐藤勉;工藤高志;岩间哲男 | 申请(专利权)人: | 持田制药株式会社 |
主分类号: | C07D471/04 | 分类号: | C07D471/04;A61K31/427;A61K31/506;A61P25/18;A61P25/24;A61P43/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司72001 | 代理人: | 郭煜,鲁炜 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明提供制造式(I)的化合物的方法。由此,提供4‑取代‑N‑(2‑苯基‑[1,2,4]三唑并[1,5‑a]吡啶‑7‑基)‑1H‑吡唑‑5‑甲酰胺衍生物的制造方法、或该制造方法的中间体。 | ||
搜索关键词: | 吡唑 衍生物 制造 方法 | ||
【主权项】:
制造下述式(I)的化合物的方法,所述制造方法包括下述阶段:使用选自二甲基亚砜和吡啶中的不参与反应的溶剂,在0℃至溶剂回流的温度下使式(PY‑1)所示的2‑氨基‑4‑碘吡啶衍生物、以及式(IM‑1)所示的化合物、或其盐进行反应,得到式(IM‑2)所示的化合物,接着,在氯化亚铜(CuCl)的铜试剂和选自碳酸钠、碳酸钾、碳酸铯中的无机碱的存在下,使用吡啶溶剂,在存在空气的情况下,在0℃至溶剂回流的温度下使式(IM‑2)和式(AD‑1)所示的化合物进行反应,从而在反应体系中形成式(IM‑3)所示的反应中间体后使所述式(AD‑1)所示的化合物进行反应,由此,得到式(I)所示的化合物;[化学式119][式(I)中,q表示0~3的整数;R2表示任意地选自C1~6烷基、卤代C1~6烷基、羟基C1~6烷基、C1~6烷氧基、和C1~6烷氧基C1~6烷基中的基团;R3表示任意地选自氢原子和氟原子中的基团;R4各自独立地表示任意地选自羟基、卤素原子、C1~6烷基、卤代C1~6烷基、C1~6烷氧基、卤代C1~6烷氧基、和C1~6烷氧基C1~6烷基中的基团;Z表示任意地选自式(II)、式(III)、和CONR6R7基(CONR6R7基中,R6和R7各自独立地表示任意地选自氢原子、C1~6烷基(该C1~6烷基任选被1~3个任意地选自杂芳基(该杂芳基任选被1~3个C1~6烷基取代)、和C1~6烷氧基羰基中的基团取代)、卤代C1~6烷基、羟基C1~6烷基、C1~6烷氧基C1~6烷基、C3~8环烷基、和杂环基中的基团)中的基团;[化学式120](式(II)中,p表示0~3的整数;R1各自独立地表示任意地选自卤素原子、氰基、C1~6烷基、C3~8环烷基、卤代C1~6烷基、C2~6烯基、C1~6烷氧基、C1~6烷氧基C1~6烷基、羟基C1~6烷基、和C2~7烷酰基中的基团;环A基表示任意地选自噻唑‑2‑基、噻唑‑4‑基、1‑甲基‑1H‑咪唑‑2‑基、1,3,4‑噻二唑‑2‑基、1,2,4‑噻二唑‑5‑基、吡啶‑2‑基、哒嗪‑3‑基、嘧啶‑2‑基、嘧啶‑4‑基、和吡嗪‑2‑基中的基团);[化学式121](式(III)中,r表示0~3的整数;R5表示任意地选自羟基、卤素原子、C1~6烷基、C1~6烷氧基、C1~6烷氧基C1~6烷基、卤代C1~6烷基、和氧代基中的基团;环B基表示任意地选自单环式非芳族杂环基、桥连非芳族杂环基、和螺非芳族杂环基中的基团)];[化学式122][式(PY‑1)中,R3表示任意地选自氢原子和氟原子中的基团];[化学式123][式(IM‑1)中,q、R4与权利要求1中的式(I)中的定义相同;RB表示C1~6烷基];[化学式124][式(IM‑2)中,q、R3和R4与权利要求1中的式(I)中的定义相同];[化学式125][式(AD‑1)中,Z和R2与权利要求1中的式(I)中的定义相同];[化学式126][式(IM‑3)中,q、R3和R4与权利要求1中的式(I)中的定义相同]。
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