[发明专利]配有热调节限制件的电磁处理单元

摘要

电磁处理单元(8)，其具有主体(9)，其具有正面(10)；光发射装置(21)，其具有多个发光源，光发射装置(21)在主体(9)上安装成向前辐射；流体回路，其配置在主体(9)内，用于光发射装置(21)的热调节；至少一个限制件(44，60，71)，其由不透发射光的材料制成，具有暴露于发射光的限制面(47，61，74，79)，电磁处理单元的特征在于，所述限制件(44，60，71)安装在主体(9)上，与之进行热接触，限制面(47，61，74，79)的热调节由流体回路(24)提供。

主权项

电磁处理单元(8)，其具有：‑主体(9)，主体具有正面(10)，‑光发射装置(21)，光发射装置具有多个发光源，光发射装置(21)在主体(9)上安装成向前辐射，‑流体回路(24)，流体回路配置在主体(9)内，用于光发射装置(21)的热调节，‑至少一个限制件(44，60，64，71)，限制件由不透发射光的材料制成，限制件有暴露于发射光的限制面(47，61，74，79)，其特征在于，流体回路(24)具有在主体(9)中形成的至少一个引入通道(25)，以及在主体(9)中形成的至少一个排出通道(26)，所述限制件(44，60，64，71)安装在主体(9)上，以与主体进行热接触，限制面(47，61，74，79)的热调节由流体回路(24)提供。