[发明专利]污垢抑制组合物及其制备和使用方法有效

专利信息
申请号: 201580037698.7 申请日: 2015-06-24
公开(公告)号: CN106715342B 公开(公告)日: 2020-08-18
发明(设计)人: A.K.帕特;P.K.潘迪;F.H.丁瓦拉 申请(专利权)人: 戴弗西公司
主分类号: C02F5/10 分类号: C02F5/10;C02F5/12;C02F5/14;C23F11/10
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 徐晶;黄念
地址: 美国威*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 提供污垢抑制组合物,其包含:(a)具有约3000‑约6000的平均分子量的第一丙烯酸聚合物;(b)具有约6000‑约10000的平均分子量的第二丙烯酸聚合物;(c)氨基羧酸,选自甲基甘氨酸二乙酸(MGDA)、谷氨酸二乙酸(GLDA)、二亚乙基三胺五乙酸(DTPA)、羟乙基乙二胺三乙酸(HEDTA)、乙二胺四乙酸(EDTA),及其组合;和(d)膦酸,选自1‑羟基乙烷1,1‑二膦酸(HEDP)、氨基三(亚甲基膦酸)(ATMP)、乙二胺四(亚甲基膦酸)(EDTMP)、四亚甲基二胺四(亚甲基膦酸)(TDTMP)、六亚甲基二胺四(亚甲基膦酸)(HDTMP)、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)(DTPMP),及其组合。所述污垢抑制组合物可以用于机器器皿清洗洗涤剂和制剂。
搜索关键词: 污垢 抑制 组合 及其 制备 使用方法
【主权项】:
一种污垢抑制组合物,其包含:(a) 具有约3000‑约6000的平均分子量的第一丙烯酸聚合物;(b) 具有约6000‑约10000的平均分子量的第二丙烯酸聚合物;(c) 氨基羧酸,选自甲基甘氨酸二乙酸(MGDA)、谷氨酸二乙酸(GLDA)、二亚乙基三胺五乙酸(DTPA)、羟乙基乙二胺三乙酸(HEDTA)、乙二胺四乙酸(EDTA),及其组合;和(d) 膦酸,选自1‑羟基乙烷1,1‑二膦酸(HEDP)、氨基三(亚甲基膦酸) (ATMP)、乙二胺四(亚甲基膦酸) (EDTMP)、四亚甲基二胺四(亚甲基膦酸) (TDTMP)、六亚甲基二胺四(亚甲基膦酸) (HDTMP)、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸) (DTPMP),及其组合。
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