[发明专利]污垢抑制组合物及其制备和使用方法

说明书

提供污垢抑制组合物，其包含：(a)具有约3000‑约6000的平均分子量的第一丙烯酸聚合物；(b)具有约6000‑约10000的平均分子量的第二丙烯酸聚合物；(c)氨基羧酸，选自甲基甘氨酸二乙酸(MGDA)、谷氨酸二乙酸(GLDA)、二亚乙基三胺五乙酸(DTPA)、羟乙基乙二胺三乙酸(HEDTA)、乙二胺四乙酸(EDTA)，及其组合；和(d)膦酸，选自1‑羟基乙烷1,1‑二膦酸(HEDP)、氨基三(亚甲基膦酸)(ATMP)、乙二胺四(亚甲基膦酸)(EDTMP)、四亚甲基二胺四(亚甲基膦酸)(TDTMP)、六亚甲基二胺四(亚甲基膦酸)(HDTMP)、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸)(DTPMP)，及其组合。所述污垢抑制组合物可以用于机器器皿清洗洗涤剂和制剂。

相关申请的交叉引用

本申请要求在2014年7月11日提交的美国专利申请号14/329,642的权益和优先权，其全部内容通过引用结合到文中。

领域

提供在机器器皿清洗(MWW)洗涤剂和制剂中有用的污垢抑制组合物。

引言

基材上的污垢形成是在含有盐的洗涤剂和水接触基材时碰见的常见问题。例如，污垢形成为与在器皿清洗和洗碗应用中使用洗涤剂相关的常见问题。当水和/或洗涤剂中发现的钙和镁盐(例如，碳酸盐)在基材上结晶或金属离子在接触水和洗涤剂的基材上沉淀时，可以形成污垢。形成基于钙和镁的污垢，例如，可以归因于许多因素，例如进水的硬度、碳酸盐离子的浓度、洗涤剂组合物中的其它组分、pH和温度。如果钙和镁离子并不充分螯合，清洁效率显著降低且在清洗机和器皿上形成污垢。

在过去，磷酸盐用于螯合金属离子(包括钙和镁离子)，以及除去食物和油脂。然而，最近磷酸盐提高了环境忧虑。

另一种常见的解决方案业已使用次氮基三乙酸(NTA)钠盐作为MWW制剂中的螯合剂。NTA为钙和镁离子的强螯合剂，且证明降低粉末和液体洗涤剂配方中的污垢。然而，最近存在NTA潜在致癌的迹象。

因此，寻求新的污垢抑制组合物。

概述

一方面，提供污垢抑制组合物。所述污垢抑制组合物可以包含：(a) 具有约3000-约6000的平均分子量的第一丙烯酸聚合物；(b) 具有约6000-约10000的平均分子量的第二丙烯酸聚合物；(c) 氨基羧酸，选自甲基甘氨酸二乙酸(MGDA)、谷氨酸二乙酸(GLDA)、二亚乙基三胺五乙酸(DTPA)、羟乙基乙二胺三乙酸(HEDTA)、乙二胺四乙酸(EDTA)，及其组合；和(d) 膦酸，选自1,1-二膦酸(HEDP)、氨基三(亚甲基膦酸) (ATMP)、乙二胺四(亚甲基膦酸)(EDTMP)、四亚甲基二胺四(亚甲基膦酸) (TDTMP)、六亚甲基二胺四(亚甲基膦酸)(HDTMP)、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸) (DTPMP)及其组合。

另一方面，提供降低表面上污垢形成的方法。所述方法可以包括使所述表面与污垢抑制组合物接触且使所述表面干燥。所述污垢抑制组合物可以包含：(a) 具有约3000-约6000的平均分子量的第一丙烯酸聚合物；(b) 具有约6000-约10000的平均分子量的第二丙烯酸聚合物；(c) 氨基羧酸，选自甲基甘氨酸二乙酸(MGDA)、谷氨酸二乙酸(GLDA)、二亚乙基三胺五乙酸(DTPA)、羟乙基乙二胺三乙酸(HEDTA)、乙二胺四乙酸(EDTA)，及其组合；和(d) 膦酸，选自1,1-二膦酸(HEDP)、氨基三(亚甲基膦酸) (ATMP)、乙二胺四(亚甲基膦酸)(EDTMP)、四亚甲基二胺四(亚甲基膦酸) (TDTMP)、六亚甲基二胺四(亚甲基膦酸)(HDTMP)、二亚乙基三胺五(亚甲基膦酸) (DTPMP)，及其组合。

考虑详细说明和附图，本发明的其它方面将变得显而易见。

附图简述

图1显示根据实施例3的与基于NTA的制剂(制剂1)和基于MGDA的制剂(制剂2)相比污垢抑制组合物(制剂3)的清洁性能。