[发明专利]HSP70调节子以及其制造和使用方法有效

专利信息
申请号: 201580036973.3 申请日: 2015-05-13
公开(公告)号: CN107074806B 公开(公告)日: 2021-04-23
发明(设计)人: 加芙列拉·基奥西斯;康彦龙;哈尔迪克·J·帕特尔;毛利克·帕特尔;斯特凡·奥基亚纳;安娜·罗迪纳;托尼·塔尔多内;莉莎·什雷斯塔 申请(专利权)人: 纪念斯隆-凯特琳癌症中心
主分类号: C07D401/12 分类号: C07D401/12;C07D239/42;C07D413/12;A61K31/506;A61K31/5377;A61K31/551;A61P35/00;A61P35/02
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 沈锦华
地址: 美国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要: 发明提供用于调节Hsp70的化合物I和II以及其组合物。在一些实施例中,本发明提供一种抑制Hsp70活性的方法。在一些实施例中,本发明提供一种治疗患有或易患对Hsp70抑制起反应的疾病、病症或病状的个体的方法,其包含投与所述个体治疗有效量的所提供化合物。在一些实施例中,本发明提供一种治疗或预防罹患癌症的个体的癌症的方法,其包含投与有需要的患者治疗有效量的所提供化合物。
搜索关键词: hsp70 调节 及其 制造 使用方法
【主权项】:
一种式I化合物,或其药学上可接受的盐,其中:X是‑N=或‑CH=;X1是‑N=或‑C(R5)=;R1是R1a是或C1‑6脂肪族基,其任选地经一或多个独立地选自以下的基团取代:‑OH、环丙基或具有1‑2个独立地选自氮、氧或硫的杂原子的5元杂芳基;每一个R1b独立地是氢、C1‑4烷基,或两个R1b基团任选地一起形成氧代基;R1c和R1d各自独立地是氢或C1‑4烷基;R2是‑O‑CH2‑环A、‑NH‑CH2‑环A或‑O‑CH2CH2‑环A;环A是未经取代的苯基、未经取代的呋喃基、或任选地经RA5取代的吡啶基;RA1各自独立地是卤素、‑CN、‑C(O)N(R)2、‑N(R)2、‑OR、‑C(O)R、‑N3、具有一或两个独立地选自氮、氧或硫的杂原子的任选地经取代的5或6元杂环基或杂芳基、或任选地经一或多个卤素取代的C1‑4烷基;每一个R独立地是氢或任选地经一或多个卤素取代的C1‑4烷基;RA2是‑Cl、‑Br、‑I、‑CN、‑C(O)N(R)2、‑N(R)2、‑OR、‑C(O)R、‑N3、任选地经一或多个卤素取代的C1‑4烷基或具有一或两个独立地选自氮、氧或硫的杂原子的任选地经取代的5或6元杂环基或杂芳基;n是1到4;RA3是‑H或‑F;RA4是‑F或‑OR;RA5是‑OR或‑N(R)2;R3是‑C(O)N(R3a)2、‑OR3b、‑C(O)H、‑C(O)OR或‑N(R3c)2;每一个R3a独立地是氢或任选地经一或多个独立地选自卤素或1‑吡咯烷基的基团取代的C1烷基;R3b是氢或任选地经一或多个独立地选自卤素、C1‑4烷基、C1‑4卤基烷基、氧代基或‑N(R)2的基团取代的C1‑4烷基;每一个R3c独立地是氢或任选地经一或多个独立地选自卤素、C1‑4烷基、C1‑4卤基烷基、氧代基或‑N(R)2的基团取代的C1‑4烷基;R4是R、卤素或‑N(R)2;并且R5是氢、甲基或‑N(R)2。
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