[发明专利]HSP70调节子以及其制造和使用方法

权利要求书

1.一种式I化合物，

或其药学上可接受的盐，其中：

X是-N＝或-CH＝；

X¹是-C(R⁵)＝；

R¹是

R^1a是或C_1-6直链脂肪族基，其任选地经一或多个独立地选自以下的基团取代：-OH或具有1-2个独立地选自氮、氧或硫的杂原子的5元杂芳基；

每一个R^1b独立地是氢或C_1-4烷基，或两个R^1b基团任选地一起形成氧代基；

R^1c和R^1d各自独立地是氢或C_1-4烷基；

R²是-O-CH₂-环A、-NH-CH₂-环A或-O-CH₂CH₂-环A；

环A是未经取代的苯基、未经取代的呋喃基、或任选地经R^A5取代的吡啶基；

R^A1各自独立地是卤素、-CN、-C(O)N(R)₂、-N(R)₂、-OR、-C(O)R、-N₃、任选地经卤素、C_1-4烷基或C_1-4卤烷基取代且具有一或两个独立地选自氮、氧或硫的杂原子的5或6元杂环基或杂芳基、或任选地经一或多个卤素取代的C_1-4烷基；

每一个R独立地是氢或任选地经一或多个卤素取代的C_1-4烷基；

R^A2是-Cl、-Br、-I、-CN、-C(O)N(R)₂、-N(R)₂、-OR、-C(O)R、-N₃、在苯甲基位置无分支链的且任选地经一或多个卤素取代的C_1-4烷基或任选地经卤素、C_1-4烷基或C_1-4卤烷基取代且具有一或两个独立地选自氮、氧或硫的杂原子的5或6元杂环基或杂芳基；

n是1到2；

R^A3是-H或-F；

R^A4是-F或-OR；

R^A5是-OR或-N(R)₂；

R³是-C(O)N(R^3a)₂、-OR^3b、-C(O)H、-C(O)OR^3c或-N(R^3d)₂；

每一个R^3a独立地是氢或任选地经1-吡咯烷基取代的C₁烷基；

R^3b是氢或任选地经一或多个独立地选自C_1-4烷基、氧代基或-NH₂的基团取代的C_1-4烷基；

R^3c是氢或C_1-4烷基；

每一个R^3d独立地是氢或经一或多个独立地选自氧代基或-NH₂的基团取代的C_1-4烷基；

R⁴是R或卤素；并且

R⁵是氢、甲基或-NH₂。

2.根据权利要求1所述的化合物，其中X是-N＝。

3.根据权利要求1所述的化合物，其中X是-CH＝。

4.根据前述权利要求中任一权利要求所述的化合物，其中R³是-C(O)NH₂。

5.根据权利要求1所述的化合物，其中R³是-N(R^3d)₂。