[发明专利]溅射用靶材及其制造方法有效
| 申请号： | 201580034459.6 | 申请日： | 2015-06-25 |
| 公开（公告）号： | CN106574359B | 公开（公告）日： | 2018-11-09 |
| 发明（设计）人： | 小泽诚;安东勋雄 | 申请（专利权）人： | 住友金属矿山株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34;C04B41/80;C04B35/01;C04B37/02 |
| 代理公司： | 隆天知识产权代理有限公司 72003 | 代理人： | 李英艳;张永康 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 本发明提供电弧、结节的产生极少的溅射靶及其制造方法。加工由氧化物烧结体构成的材料而得到平板状或圆筒形靶材(3、13)。此时，使用规定粒度的磨石，并根据该磨石的粒度对所述材料中成为溅射面(5、15)的面，实施一次以上的粗磨，然后，实施一次以上的清磨，从而将溅射面(5、15)的表面粗糙度控制在以算数平均粗糙度Ra计为0.9μm以上、以最大高度Rz计为10.0μm以下、并且以十点平均粗糙度RzJIS计为7.0μm以下。介由接合层(4、14)将所得到的靶材(3、13)与支撑本体(2、12)接合而制成溅射靶(1、11)。 | ||
| 搜索关键词： | 溅射 用靶材 及其 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种溅射用靶材，其是由氧化物烧结体构成并且具有溅射面的溅射用靶材，其中，前述溅射面具有以算数平均粗糙度Ra计为0.9μm以上、以最大高度Rz计为10.0μm以下、并且以十点平均粗糙度RzJIS计为7.0μm以下的表面粗糙度。
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