[发明专利]具有局部去偏光区域的偏光板的制备方法，通过使用该方法制造的偏光板有效
| 申请号： | 201580000757.3 | 申请日： | 2015-06-24 |
| 公开（公告）号： | CN105393147B | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 李炳鲜;金志映;南星铉;罗钧日 | 申请（专利权）人： | LG化学株式会社 |
| 主分类号： | G02B5/30 | 分类号： | G02B5/30;C08J5/18;B32B27/30;B29D7/01;B29L7/00;B29L11/00;G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 | 代理人： | 顾晋伟 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 韩国;KR |
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| 摘要： | 本发明涉及一种用于制造偏光板的方法以及通过使用该方法制造的偏光板，该方法包括：制备偏光板，其中，在以碘和二向色性染料的至少一种或多种染色的基于聚乙烯醇的偏光片的一个表面上层压保护膜；以及通过使包含1至30wt％的脱色剂的脱色溶液与所述偏光片的另一个表面局部接触而形成在400nm至800nm的范围内的波长段上具有80％以上的单体透射率的去偏光区域。 | ||
| 搜索关键词： | 具有 局部 偏光 区域 制备 方法 通过 使用 制造 | ||
【主权项】：
1.一种用于制造偏光板的方法，该方法包括：制备偏光板，其中，在以碘和二向色性染料的至少一种或多种染色的基于聚乙烯醇的偏光片的一个表面上层压保护膜；通过使包含1至30wt％的脱色剂的脱色溶液与所述偏光片的另一个表面局部接触而形成在400nm至800nm的范围内的波长段上具有80％以上的单体透射率的至少一个去偏光区域，以及通过使用酸溶液进行洗涤，其中，所述脱色溶液的pH值为11至14，其中，在偏光片的不要求偏光效果的一个区域内连续地形成去偏光区域，其中，至少一个去偏光区域的面积是0.5mm2以上和500mm2以下，其中，所述去偏光区域的算术平均粗糙度Ra为30nm以下，以及所述去偏光区域的均方根粗糙度Rq为30nm以下。
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