[发明专利]具有局部去偏光区域的偏光板的制备方法，通过使用该方法制造的偏光板

权利要求书

1.一种用于制造偏光板的方法，该方法包括：

制备偏光板，其中，在以碘和二向色性染料的至少一种或多种染色的基于聚乙烯醇的偏光片的一个表面上层压保护膜；

通过使包含1至30wt％的脱色剂的脱色溶液与所述偏光片的另一个表面局部接触而形成在400nm至800nm的范围内的波长段上具有80％以上的单体透射率的至少一个去偏光区域，以及

通过使用酸溶液进行洗涤，

其中，所述脱色溶液的pH值为11至14，

其中，在偏光片的不要求偏光效果的一个区域内连续地形成去偏光区域，

其中，至少一个去偏光区域的面积是0.5mm²以上和500mm²以下，

其中，所述去偏光区域的算术平均粗糙度Ra为30nm以下，以及所述去偏光区域的均方根粗糙度Rq为30nm以下。

2.根据权利要求1所述的方法，其中，所述脱色剂包括选自氢氧化钠NaOH、硫氢化钠NaSH，叠氮化钠NaN₃，氢氧化钾KOH，硫氢化钾KSH和硫代硫酸钾KS₂O₃中的一种或多种。

3.根据权利要求1所述的方法，其中，所述脱色溶液的粘度为1cP至2000cP。

4.根据权利要求1所述的方法，其中，所述脱色溶液进一步包括粘度剂。

5.根据权利要求4所述的方法，其中，所述粘度剂包括选自基于聚乙烯醇的树脂，基于聚乙酰乙酸乙烯酯的树脂，基于由乙酰乙酰基改性的聚乙烯醇的树脂，亚丁基二醇乙烯基醇类，基于聚乙二醇的树脂和基于聚丙烯酰胺的树脂。

6.根据权利要求4所述的方法，其中，所述脱色溶液包括：基于总重量，1wt至30wt％的脱色剂；0.5wt％至30wt％的粘度剂；以及余量的水。

7.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：

在形成去偏光区域之前，在所述偏光片的另一个表面上形成包含至少一个钻孔部分的掩模层。

8.根据权利要求7所述的方法，其中，在形成掩模层中，在掩模膜的至少一个区域中形成钻孔部分，并将所述掩模膜附着在所述偏光片的另一个表面上。

9.根据权利要求7所述的方法，其中，在形成掩模层中，在偏光片的另一个表面上形成涂布层，且可以选择性地去除所述涂布层的至少一个区域以形成钻孔部分。

10.根据权利要求1所述的方法，其中，所述形成去偏光区域通过浸渍法，或者点胶机、喷墨机或凹版印刷法进行。

11.根据权利要求1所述的方法，进一步包括：

在形成去偏光区域之后，在所述偏光板的至少一个表面上形成光学层。

12.根据权利要求11所述的方法，其中，所述光学层包括保护膜、延迟膜、亮度提高膜、硬涂层、防反射层、内聚层、粘合层、或者作为其组合的局部脱色区域。

13.一种偏光板，其包括：

由碘和二向色性染料的至少一种或多种染色的基于聚乙烯醇的偏光片，以及

在所述基于聚乙烯醇的偏光片的至少一个表面上层压的保护膜，

其中，所述偏光板局部具有至少一个去偏光区域，该去偏光区域在400nm至800nm范围内的波长段具有80％以上的单体透射率，且所述去偏光区域的算术平均粗糙度Ra为30nm以下，

其中，在偏光片的不要求偏光效果的一个区域内连续地形成去偏光区域，

其中，至少一个去偏光区域的面积是0.5mm²以上和500mm²以下，

其中，所述去偏光区域的均方根粗糙度Rq为30nm以下。