[实用新型]一种用于多晶硅生产的气路控制装置有效
申请号: | 201521106399.8 | 申请日: | 2015-12-25 |
公开(公告)号: | CN205298774U | 公开(公告)日: | 2016-06-08 |
发明(设计)人: | 闫志伟;薛海军;曹文江;张清岭 | 申请(专利权)人: | 内蒙古神舟硅业有限责任公司 |
主分类号: | F16K31/122 | 分类号: | F16K31/122;F16K31/06 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 010070 内蒙古自*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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摘要: | 本实用新型公开了一种用于多晶硅生产的气路控制装置,其包括阀体、执行器和电磁阀,阀体的阀杆与执行器的输出轴同轴固定连接;执行器内密封相对滑动设有两个活塞,两个活塞将执行器内腔分为一个执行腔和两个缓冲腔,两个活塞之间的腔体为执行腔,活塞与对应的执行器端壁之间形成缓冲腔,在执行腔内转动设有输出轴,输出轴与两个活塞啮合;在执行腔的外壁上设有执行进气孔,在缓冲腔外壁上设有缓冲进气孔;执行进气孔和缓冲进气孔分别通过气源管与电磁阀的两个出气孔连通;电磁阀的进气孔与气源通过管道连通。本实用新型避免因执行器长期使用受到腐蚀情况下导致阀门无法正常关闭的问题。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 多晶 生产 控制 装置 | ||
【主权项】:
一种用于多晶硅生产的气路控制装置,其包括阀体、执行器和电磁阀,所述阀体的阀杆与所述执行器的输出轴同轴固定连接;所述执行器内密封相对滑动设有两个活塞,两个所述活塞将所述执行器内腔分为一个执行腔和两个缓冲腔,两个所述活塞之间的腔体为所述执行腔,所述活塞与对应的所述执行器端壁之间形成所述缓冲腔,在所述执行腔内转动设有所述输出轴,所述输出轴与两个所述活塞啮合;在所述执行腔的外壁上设有执行进气孔,其特征在于,在所述缓冲腔外壁上设有缓冲进气孔;所述执行进气孔和所述缓冲进气孔分别通过气源管与所述电磁阀的两个出气孔连通;所述电磁阀的进气孔与气源通过管道连通。
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