[实用新型]一种蒸镀工艺用掩膜版

摘要

本实用新型提供一种蒸镀工艺用掩膜版，包括金属掩模基体，具有多个开口区以形成特定的图形；磁性弹性膜，所述磁性弹性膜具有与金属掩模基体相对应的开口与图形，并形成于金属掩模基体背离蒸镀源的一侧，且金属掩模基体的开口范围在磁性弹性膜对应的开口范围内。所述磁性弹性膜由磁性高分子材料构成。本实用新型提供的掩膜版中，高分子膜由于具有磁性，可与金属掩模基体具有牢固的结合，另外由于膜的弹性，可容纳玻璃基板上较大粒径的颗粒物，保证玻璃基板与掩膜版紧密贴合，有效防止蒸镀过程中玻璃基板与掩膜版非紧密贴合状态导致的混色蒸镀。

主权项

一种蒸镀工艺用掩膜版，其特征在于，包括：金属掩模基体，具有多个开口区以形成特定的图形；磁性弹性膜，形成于金属掩模基体背离蒸镀源的一侧；其中，所述磁性弹性膜具有与金属掩模基体相同的开口，且所述磁性弹性膜对位贴合于金属掩模基体背离蒸镀源的一侧；或所述磁性弹性膜具有与金属掩模基体对应的开口，且对位贴合于金属掩模基体背离蒸镀源的一侧，所述金属掩模基体的开口在贴合平面的投影落在所述磁性弹性膜的开口在贴合平面的投影范围内。