[实用新型]一种应用于干刻设备工艺腔室中的边环及边环单元有效
| 申请号： | 201521021073.5 | 申请日： | 2015-12-10 |
| 公开（公告）号： | CN205211700U | 公开（公告）日： | 2016-05-04 |
| 发明（设计）人： | 吴梦琳 | 申请（专利权）人： | 昆山国显光电有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01J37/02 |
| 代理公司： | 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 | 代理人： | 许志勇 |
| 地址： | 215300 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种应用于干刻设备工艺腔室中的边环，其特征在于，包括：多个边环单元；各边环单元分别设置有连接结构，所述连接结构设置在各边环单元的两端；各边环单元通过所述连接结构连接在一起构成所述边环，使得所述边环存在的各缝隙大小均小于规定阈值。相比于现有技术中的边环而言，边环存在的缝隙大小，可由该连接结构决定，无需技术人员凭经验控制，从而相对于现有技术而言，可以实现精确控制缝隙大小。同时，由于通过所述连接结构构成的边环存在的各缝隙大小均小于规定阈值，因此本实用新型公开的边环上的缝隙小于氦气能够泄露的最小缝隙，避免边环面临氦侧漏的问题。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 应用于 设备 工艺 中的 单元 | ||
【主权项】：
一种应用于干刻设备工艺腔室中的边环，其特征在于，包括：多个边环单元；各边环单元分别设置有连接结构，所述连接结构设置在各边环单元的两端；各边环单元通过所述连接结构连接在一起构成所述边环，使得所述边环存在的各缝隙大小均小于规定阈值。
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