[实用新型]一种自动含浸机有效
| 申请号： | 201520960937.3 | 申请日： | 2015-11-28 |
| 公开（公告）号： | CN205194539U | 公开（公告）日： | 2016-04-27 |
| 发明（设计）人： | 袁湘龙;杨丰年 | 申请（专利权）人： | 刘毅然 |
| 主分类号： | H01G13/04 | 分类号： | H01G13/04;H01G9/045 |
| 代理公司： | 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 | 代理人： | 汤东凤 |
| 地址： | 413514 湖南*** | 国省代码： | 湖南;43 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种自动含浸机，涉及用于生产电子元件的加工设备技术领域，括机架、设于机架一侧的自动上料机构、设于机架顶部的搬运机构、设于机架上且位于搬运机构下方的浸液机构、设于机架上且位于浸液机构上方的移送机构及位于机架另一侧的自动下料机构，还包括设于机架上且位于浸液机构和自动下料，下料机构之间的除液机构，除液机构位于移送机构的下方。本实用新型提供的自动含浸机，在现有含浸机的基础上增加了除液机构，能在电子元件浸液工序结束后对电子元件底部进行擦拭、去除多余液体，使电子元件底部平整、电子元件的高度不变，提高产品合格率。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 自动 含浸机 | ||
【主权项】：
一种自动含浸机，包括机架（1）、设于机架一侧的自动上料机构（2）、设于机架顶部的搬运机构（3）、设于机架上且位于搬运机构下方的浸液机构（4）、设于机架上且位于浸液机构上方的移送机构（5）及位于机架另一侧的自动下料机构（6），其特征在于，还包括设于机架上且位于浸液机构和自动下料下料机构之间的除液机构（7），除液机构位于移送机构的下方。
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