[实用新型]一种自动含浸机有效

专利信息
申请号: 201520960937.3 申请日: 2015-11-28
公开(公告)号: CN205194539U 公开(公告)日: 2016-04-27
发明(设计)人: 袁湘龙;杨丰年 申请(专利权)人: 刘毅然
主分类号: H01G13/04 分类号: H01G13/04;H01G9/045
代理公司: 北京科亿知识产权代理事务所(普通合伙) 11350 代理人: 汤东凤
地址: 413514 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 一种 自动 含浸机
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及用于生产电子元件的加工设备技术领域,尤其涉及一种自动含浸机。

背景技术

含浸机一般用于制备铝电解电容器,一般包括机架、设置在机架上的含浸槽、与含浸槽的槽口密封连接并形成含浸区的密封盖,与含浸区联通的抽真空管、放气管、压缩空气管能使含浸机在常压、真空以恒压条件下对铝电解电容器进行含浸,满足铝电解电容器的含浸工艺要求。

但是,现有的含浸机未能在含浸程序结束后对电子元件的底部进行擦拭,电子元件烘干后的底部易出现不平或电子元件的高度过大的问题,影响电子元件下一道生产工序,导致生产成本增加、产品合格率下降。

发明内容

为了解决上述现有技术中存在的缺点和不足,本实用新型提供了一种能在浸液结束后对电子元件底部进行擦拭的自动含浸机。

为了达到上述目的,本实用新型提供的自动含浸机,包括机架、设于机架一侧的自动上料机构、设于机架顶部的搬运机构、设于机架上且位于搬运机构下方的浸液机构、设于机架上且位于浸液机构上方的移送机构及位于机架另一侧的自动下料机构,还包括设于机架上且位于浸液机构和自动下料下料机构之间的除液机构,除液机构位于移送机构的下方。

优选的,所述除液机构包括水平设置的除液平板,除液平板的底部设有多个用于带动除液平板升降的气缸一,气缸一活塞杆的顶部通过浮动接头连接于除液平板。

优选的,所述除液平板上均匀设有小孔或铺设有海绵。

优选的,所述除液平板的底部设有聚液槽。

优选的,所述机架上设有安装座,安装座上设有用于支撑除液平板的基座,基座上设有用于调节除液平板的调节座,气缸一固定在安装座上。

优选的,所述除液机构包括固定在机架上的固定板、设于固定板上方的除液平板、设于固定板和除液平板之间用于带动除液平板升降的基板、用于擦拭电子元件底部的擦拭纸、用于带动擦拭纸转动的电机一,擦拭纸从除液平板上方绕过,除液平板下方的相对两侧设有出纸轴和卷纸轴,电机一动力输出轴的末端通过联轴器连接于卷纸轴的一端。

优选的,所述除液机构还包括用于带动基板升降的丝杠、用于带动丝杆转动的电机二、与丝杆配合的螺母、用于固定螺母的连接座、轴向竖直用于连接连接座和基板的支柱,电机二竖直设置,电机二上动力输出轴的末端连接于丝杆底部。

优选的,所述除液机构还包括用于设于固定板下方的光电感应器和感应片。

优选的,所述除液机构还包括用于控制的擦拭纸松紧程度的压紧轴、用于调整压紧轴的摆臂、用于带动摆臂转动的压轮气缸、及用于连接压轮气缸和摆臂的连接头。

优选的,所述除液机构还包括设于固定板上的光纤感应器。

本实用新型提供的自动含浸机,在现有含浸机的基础上增加了除液机构,能在电子元件浸液工序结束后对电子元件底部进行擦拭、去除多余液体,使电子元件底部平整、电子元件的高度不变,提高产品合格率。

附图说明

图1为本实用新型自动含浸机实施例的整体结构示意图;

图2为本实用新型自动含浸机实施例中除液机构的第一种结构示意图;

图3为本实用新型自动含浸机实施例中除液机构的第二种结构示意图;

图4为本实用新型自动含浸机实施例中除液机构的第二种结构立体图。

图中,1-机架,2-自动上料机构,3-搬运机构,4-浸液机构,5-移送机构,6-自动下料机构,7-除液机构,71-除液平板,72-气缸一,73-浮动接头,74-聚液槽,75-安装座,76-基座,77-调节座,8-料架,91-固定板,92-基板,93-擦拭纸,94-电机一,95-出纸轴,96-卷纸轴,97-联轴器,98-丝杆,99-电机二,910-螺母,911-连接座,912-支柱,913-光电感应器,914-感应片,915-压紧轴,916-摆臂,917-压轮气缸,918-连接头,919-光纤感应头。

具体实施方式

下面结合附图对本实用新型作进一步说明。

如图1所示,本实用新型提供的自动含浸机,包括机架1、设于机架一侧的自动上料机构2、设于机架顶部的搬运机构3、设于机架上且位于搬运机构下方的浸液机构4、设于机架上且位于浸液机构上方的移送机构5及位于机架另一侧的自动下料机构6、设于机架上且位于浸液机构和自动下料下料机构之间的除液机构7,除液机构位于移送机构的下方。

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