[实用新型]化学机械抛光装置用承载头及其隔膜有效

专利信息
申请号: 201520591847.1 申请日: 2015-08-03
公开(公告)号: CN205009030U 公开(公告)日: 2016-02-03
发明(设计)人: 孙准皓 申请(专利权)人: K.C.科技股份有限公司
主分类号: B24B37/34 分类号: B24B37/34
代理公司: 北京鸿元知识产权代理有限公司 11327 代理人: 姜虎;陈英俊
地址: 韩国*** 国省代码: 韩国;KR
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摘要: 实用新型涉及化学机械抛光装置用承载头及其隔膜,隔膜包括:底板,对晶片的板面进行施压;侧面,从底板的边缘向上侧折弯而成;固定片,包括多个垂直延伸部和水平延伸部,多个垂直延伸部在侧面和底板的中心之间以环形向上延伸而成,水平延伸部从多个垂直延伸部的上端部分别向第一方向水平延伸,水平延伸部与承载头的本体部相结合,并在底板和本体部之间形成多个压力腔室,由于固定片的水平延伸部均朝向相同的第一方向排列,所以各压力腔室的底面的变形方向也恒定,能够使各压力腔室的底面的收缩及膨胀之差最小化,以防止向晶片导入的压力因各压力腔室的底面的变形状态而畸变,能够向晶片板面准确地施加与导入至压力腔室的压力成正比的压力。
搜索关键词: 化学 机械抛光 装置 承载 及其 隔膜
【主权项】:
一种化学机械抛光装置用承载头的隔膜,其特征在于,包括:底板,对晶片的板面进行施压;侧面,从上述底板的边缘向上侧折弯而成;以及固定片,包括多个垂直延伸部和水平延伸部,上述多个垂直延伸部在上述侧面和上述底板的中心之间以环形向上延伸而成,上述水平延伸部从上述多个垂直延伸部的上端部分别向第一方向水平延伸,上述水平延伸部与上述承载头的本体部相结合,从而在上述底板和上述本体部之间形成多个压力腔室。
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