[实用新型]用于准分子激光器的卤素气体补充装置有效
| 申请号: | 201520477457.1 | 申请日: | 2015-07-03 |
| 公开(公告)号: | CN205081350U | 公开(公告)日: | 2016-03-09 |
| 发明(设计)人: | 沙鹏飞;单耀莹;彭卓君;宋兴亮;蔡茜玮;范元媛;李慧;赵江山;周翊 | 申请(专利权)人: | 中国科学院光电研究院 |
| 主分类号: | H01S3/036 | 分类号: | H01S3/036 |
| 代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 宋焰琴 |
| 地址: | 100094*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | 本实用新型公开了一种用于准分子激光器的卤素气体补充装置,准分子激光器的腔体具有进入管道和出气管道,卤素气体补充装置包括冷凝器(1)、氧气提供装置(2)、压缩机(3)和储气室(4),储气室(4)分别与出气管道、冷凝器(1)、氧气提供装置(2)通过阀门连接。氧气提供装置(2)用于向储气室(4)提供氧气;储气室(4)用于使氧气和来自腔体的工作气体充分反应生成反应气体;冷凝器(1)对反应气体进行制冷,由此除杂而输出未被冷凝的气体,压缩机(3)抽取所述冷凝器(4)中未被冷凝的气体并输送到腔体中。本实用新型可以有效的提高工作气体的寿命,同时在除杂过程中不会由于添加其它气体而使输出能量下降。 | ||
| 搜索关键词: | 用于 准分子激光 卤素 气体 补充 装置 | ||
【主权项】:
一种卤素气体补充装置,用于为准分子激光器补充卤素气体,所述准分子激光器包括腔体,该腔体内的工作气体为稀有气体、卤素气体及缓冲气体,且腔体具有进入管道和出气管道,其特征在于:所述卤素气体补充装置包括冷凝器(1)、氧气提供装置(2)、压缩机(3)和储气室(4),所述储气室(4)分别与所述出气管道、冷凝器(1)、氧气提供装置(2)连接;所述氧气提供装置(2)用于向所述储气室(4)提供氧气;所述储气室(4)具有一定的容积,用于容纳由所述氧气提供装置(2)提供的氧气和来自所述腔体的工作气体,并使该氧气和该工作气体充分反应,生成反应气体;所述冷凝器(1)内的温度为‑80℃至‑120℃,用于对所述反应气体进行制冷,输出未被冷凝的气体;所述压缩机(3)用于抽取所述冷凝器(4)中未被冷凝的气体并输送到所述腔体中。
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