[实用新型]用于准分子激光器的卤素气体补充装置有效
| 申请号： | 201520477457.1 | 申请日： | 2015-07-03 |
| 公开（公告）号： | CN205081350U | 公开（公告）日： | 2016-03-09 |
| 发明（设计）人： | 沙鹏飞;单耀莹;彭卓君;宋兴亮;蔡茜玮;范元媛;李慧;赵江山;周翊 | 申请（专利权）人： | 中国科学院光电研究院 |
| 主分类号： | H01S3/036 | 分类号： | H01S3/036 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 宋焰琴 |
| 地址： | 100094*** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 用于 准分子激光 卤素 气体 补充 装置 | ||
1.一种卤素气体补充装置，用于为准分子激光器补充卤素气体，所述准分子激光器包括腔体，该腔体内的工作气体为稀有气体、卤素气体及缓冲气体，且腔体具有进入管道和出气管道，其特征在于：
所述卤素气体补充装置包括冷凝器(1)、氧气提供装置(2)、压缩机(3)和储气室(4)，所述储气室(4)分别与所述出气管道、冷凝器(1)、氧气提供装置(2)连接；
所述氧气提供装置(2)用于向所述储气室(4)提供氧气；
所述储气室(4)具有一定的容积，用于容纳由所述氧气提供装置(2)提供的氧气和来自所述腔体的工作气体，并使该氧气和该工作气体充分反应，生成反应气体；
所述冷凝器(1)内的温度为-80℃至-120℃，用于对所述反应气体进行制冷，输出未被冷凝的气体；
所述压缩机(3)用于抽取所述冷凝器(4)中未被冷凝的气体并输送到所述腔体中。
2.如权利要求1所述的卤素气体补充装置，其特征在于，所述卤素气体为氟气。
3.如权利要求1或2所述的卤素气体补充装置，其特征在于，所述冷凝器内的温度为-100℃。
4.如权利要求3所述的卤素气体补充装置，其特征在于，所述冷凝器包括器壁(9)和包裹器壁(9)外围的绝缘层(10)，所述绝缘层(10)的结构为空腔结构，其内可以充入低温介质，用于保持所述器壁(9)的低温。
5.如权利要求4所述的卤素气体补充装置，其特征在于，所述器壁(9)的内部填充有铜绒丝(11)。
6.如权利要求3所述的卤素气体补充装置，其特征在于，还包括预混气提供装置(12)，其通过阀门连接于所述腔体的进气管道，用于为所述腔体提供初始的工作气体。
7.如权利要求4所述的卤素气体补充装置，其特征在于，还包括卤素气体提供装置(13)，其通过阀门连接于所述腔体的进气管道，用于为所述腔体补充卤素气体。
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